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光刻机_雕刻机_曝光系统

真的没那么容易,荷兰2纳米光刻机

荷兰ASML公司的一位高管也曾表示,EUV光刻机研制难度非常大,部分零部件调整,差不多要耗费十年的时间

以上两位行业大拿的话乍一听很夸张,但从ASML公司垄断EUV光刻机全部市场份额的结果来看,这二位说得并不夸张

真的没那么容易

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原子弹与光刻机有着本质上的区别,一个要的是能“炸响”,一个要的是能“用”!原子弹只要能够提取出关键原料,就能造得出来,而光刻机则不一样,一个国家凭借自己的力量真的很难造出

以ASML公司制造的EUV光刻机为例,其所需的10余万个零部件,来自35个国家的5000多家企业,如光源来自美国、光学设备来自日本、镜头来自德国、轴承来自瑞典等

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更何况,我们根本不可能进口到所有的EUV光刻机零部件!为了限制我国崛起老美联合自己的小伙伴,在几十年前就签订了一份禁止向我国出口一切高端技术的协定

因此,我们很难从这个协定成员国那里进口到制造EUV光刻机的关键零部件

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老美做这些的目的只有一个:将我国排除在世界半导体产业链之外遏制我国科技的发展,巩固自身的“科技霸权”!任正非曾表示,我国之所以无法实现高端芯片的自给自足,主要还是因为EUV光刻机被卡了脖子

老美也正是看中了我国缺少EUV光刻机,才如此拉帮结派,企图通过结盟,遏制国产芯片的崛起

近两个月来,老美在半导领域的动作非常频繁,先是向韩、日、台施压,逼迫它们在规定的期限内加入“四方芯片联盟”,后又出台了527亿的《芯片和科技法案》,要求享受相应政策红利的企业,不能在我国新建、扩大晶圆

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