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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国院士说对了,台积电光刻机发明林

中国院士对了

在今年上半年,我们大陆中企为ASML带来的营收贡献,直接占据了份额第一

所以从这个外部因素来说,ASML是难以接受DUV光刻机新规则的

中国院士倪光南就说过,要发展核心科技,因为核心技术是买不来、求不来、换不来的,确实如此

台积电光刻发明

而且DUV光刻机的关键部件,如双工件台、浸没系统等,主要技术来自ASML自己,所以说ASML在DUV光刻机上拥有着说话的底气

当然,内部因素其实还不是最主要的,主要还是来自外部因素

所谓的外部因素,就是DUV光刻机毕竟是一项已经成熟的产品,从本质上说,DUV光刻机没有技术上难以逾越的鸿沟

所以对于ASML来说,让DUV光刻机也去适配修改后的芯片规则,没有任何意义,只会是让ASML丢失大量的市场和营收

要知道,目前我们不仅是全球最大的芯片市场,也是全球最大的半导体设备市场,而ASML在老美的营收已经连续三年下滑

换句话说,只要假以时日,愿意投入资金去研发,是都可以研发出来的

例如我们国产光刻机,早就已经实现了DUV光刻机的量产

EUV光刻机与DUV光刻机的关键不同,是光源的不同,EUV光刻机的光源波长更短,制造难度很大

不过根据最新消息显示,老美方计划将DUV光刻机也纳入范围当中

此前在EUV光刻机上,ASML的态度比较缓和,但这次直接表示了拒绝,可以说ASML不再遮掩,摊牌

ASML之所以会在态度上出现这样的巨大反差,出于两个方面的因素,分为外部因素和内部因素

中国院士说对了,台积电光刻机发明林

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