EUV光刻机后DUV光刻机也将无法进口:取代ASML已经成了唯一选项
在历史上我们国家的光刻机也曾经有过一段高速发展的阶段，早在1965年中国科学院就研制出65型接触式光刻机；1977年研制出GK-3型半自动光刻机；1981年研制出JK-1型半自动接近式光刻机；1985年研制出分步投影式光刻机，达到美国4800DSW光刻机的水平，距离世界上最顶级的分步光刻机也仅有7年的差距
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也正是因为国内在科技领域的话语权不断增加引起了美国的忌惮并最终选择对芯片产业下手
一旦DUV光刻机进口受限，由于目前国内上海微电子的最先进制程依然仅有45nm，那么对于国内部分需要先进制程的芯片行业来说将受到很大影响
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先是中芯国际正常下单的EUV光刻机的交付时间不断推迟，直到今天依然没有交付，EUV光刻机也形成了事实上的“断供”；其后一直在正常交付的DUV光刻机成为了新的目标，多家外媒报道美国政府正在向ASML施压要求不准继续向中国销售DUV光刻机
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国内众多芯片厂商采购ASML光刻机在芯片产业链不断完善的同时，国内在新能源汽车、云计算、物联网、5G等领域取得了快速的发展并进入了全球科技产业前列，也诞生了如华为、阿里云等能够在全球进行竞争的强大科技企业
中国买到了光刻机
02专项但是随着国际形势的进一步变化，自1992年开始，各种高端技术和设备的进口开始缩减，对于光刻机的研发也重新被提上日程
DUV光刻机也将“断供”但是在2018年之前所有的光刻机都可以买到，因此国内光刻机的研发虽然在稳步进行，但是却缺乏紧迫性
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