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光刻机_雕刻机_曝光系统

北京光刻机股,比原子弹稀有

而ASML采用的则是一种激光干涉仪精度非常高,有着位移测量的能力,可以实现出纳米级的同步运动,非常精密,这样的技术就是美国也没有办法做到

可见光刻机建造难度极大,而其的建造,也代表着现如今完整的高尖端工业体系,代表的是一个国家真正的科技力量,和真正的工业实力,因此是不容小觑的

原子弹稀有

然而在EUV光刻机面世之前,一直都是使用的DUV光刻机,使用的是短波紫外线突破极紫外线,一共花费了20年的时间才完成,可见对于光源选择使用,其的难度是非常大的,没有捷径可走

2、反射镜反射镜听起来好像是一个比较常见的工具,然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术

一直都蛮喜欢先锋,在华硕和先锋两个品牌面前纠结了好久,最后还是选择了先锋,读书的时候就是只用先锋,现在还是选择先锋,质感非常不错哦,小日本的东西还是不错的!便携式给客户刻录碟片非常方便!给京东一个大大的好评!赞!

北京光刻机股

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曾有美国教授指出,如果建造原子弹难度是1,那么中国造光刻机的难度是10,因此有不少人发出疑问,原子弹和光刻机到底哪个更难造?甚至有人说,为什么我们把原子弹都造出来了,为何还造不出光刻机呢?这要说,这两者根本不具备可比性,以目前的技术来说,我们建造原子弹,自然已经不具备难度了,可是能否认原子弹是尖端技术吗?就在几十年前,更是世界最尖端技术的存在,我们建造出第一枚原子弹不难吗?科学家们,用算盘、手摇计算机、第一代电子计算机算出核弹,能不难吗?难,只是以目前的技术来说,再看过去,难度好似降低了

有句话说,芯片是微观制造工艺极限

那么将这个极限制造出来的光刻机,有多难非常明显了,而每一纳米的突破,都是极其难得,阿斯麦尔温彼得甚至还表示,中国不太可能独立造出顶尖光刻机

要说最难的就是这3个点了

1、光源我们知道,目前ASML最尖端的就是EUV光刻机了,而其使用的就是极紫外线,能够将光刻技术扩展到32nm以下

就说光刻机,在2,30年前技术还处于粗糙的阶段,如今的发展进入了高精端的领域,那么再经过5.60年,再看向光刻机技术,是否又会觉得这是一件普通到常见的技术了呢?不论是从领域还是从难度等问题,都没有可比性,也没有意义,要说难,那都是难造的

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