EUV光刻机的技术难度比当前正在攻克的DUV光刻机更大，在更先进的EUV光刻机都已取得技术突破的时候，DUV光刻机量产自然就更没难度了
中国在光刻机技术方面的快速突破，已让ASML感到担忧，事实上此前在美国的诸多压力下，ASML的高管就表示限制ASML向中国供应光刻机无助于全球产业链的发展，中国迟早能解决光刻机问题
光刻机之所以难，在于它是集诸多行业的精华于一身，需要诸多产业链企业共同配合才能量产，一台光刻机就有上万个元件，可以说只是光刻机本身就是一条相当大的产业链
此时传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利，意味着我国在更先进的EUV光刻机技术研发方面也已取得了重大突破
中国在光刻机方面的技术迅速突破，在于此前具有一定的基础，事实上在1990年代的时候，我国的光刻机技术与海外差距没有如今那么大，只是后来由于海外光刻机企业的日渐强大，以及当时发展芯片产业时机未到，国产的光刻机产业链逐渐凋零，如今经过近十年时间的努力，国内光刻机产业链再度打通也就不在话下
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选择中国有没有能造光刻机的企业
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近日国内光刻机产业链的企业之一，传芯半导体公开宣布已经20余项EUV光刻机技术专利，加上此前在激光光源、工作台、镜头等方面所取得的成果，国产EUV光刻机已取得了重大进展，或许数年后国产EUV光刻机就将量产，这正让ASML后悔莫及
ASML后悔莫及
中国除了继续研发光刻机之外，还在研发无需光刻机的芯片制造工艺，这方面已有日本做出示范，日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用，证明了无需光刻机也能生产芯片，而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产，如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾
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