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历时20年之久，中国光刻机技术一直卡在193nm无法突破，中国随着发展也逐渐认识到半导体产业的重要性，开始探讨突破193nm的方法
而此时的ASML却已经开始了EUV光刻机的研发工作，并且成功在2010年正式研发出第一台EVU原型机
注：图片来自仪器信息网 然而自主研发光刻机并非想象中那么简单
据数据显示，制造一台光刻机的精密零件需求为数万颗，而世界目前最先进的极紫外EVU光刻机则需要零件多达十多万
如此多的数目以及极其精密的数据要求，就成为了光刻机最根本的需求基础，因此传统的制造基础便成为了光刻机技术突破的基础产业要求之一
恰巧2000年的中国，正是大量爱国人士回国创业的时代，他们带着外国的先进知识和经验，进一步促使中国半导体的产业得到光速发展
2007年，上海微电子宣布研制出90nm的分布式投影光刻机，但由于大多数元器件来自国外，西方国家再次禁运，导致无法量产
给小孩读他们学习的光盘用的，不错。太给力了。真的挺好的，品质一流，很满意的一次购物。物流一如既往地快，包装很好，一点也没有破损。这个宝贝真是不错，挺喜欢的，用起来挺好的。会再来的，这是一次很开心的购物，体验十分不错。价格也十分优惠，价优物美，很喜欢。一直很信赖京东，相当满意的购物体验。质量非常好，与卖家描述的完全一致，非常满意,真的很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，物流公司服务态度很好，运送速度很快，很满意的一次购物。感谢京东为我们提供的良好购物体验！
先锋刻录机的质量非常好，2004年我家组装的台式机选择的就是先锋台式机刻录光驱，现在还可以正常使用呢。这次主要是给笔记本配置的外置DVD刻录光驱，我再次选择了先锋。这款光驱性能很好，刻录时噪音很小，运行平稳，我非常满意！
从“造不如买”到集中力量攻坚
因此我国的光刻机技术水平仍然需要不断努力突破，才能弥补这个差距
【中国光刻机的三次“突破”】 在1952年，我国步入计算机科研，国家也正是成立了计算机科研小组，而此时的中国相对于外国来讲，GDP仍然差距较大
直到1956年，我国正式开始重视半导体产业，并且成功研制出第一只晶体三极管，从此中国进入半导体的新纪元，然而此时相对世界上第一只三极管的诞生已经过去了长达9年的时间
然而就在2019年，美国突然宣布对华为实施制裁，并且将制裁范围从芯片扩展至其他更多的领域，光刻机对华销售也在其中
而此时的中国，小于5nm的芯片晶圆只能依靠ASML的EVU光刻机生产，迫于美国的压力，荷兰只能妥协，中国因此迎来光刻机发展的第三次“卡脖”
中国生产光刻机企业
光驱外观好看，包装店家很用心，上机试了一下，读取光碟内容很快，播放没有卡顿，特意用了几天才来评价，希望对大家有所帮助 读盘速度：快 读盘声音：没有声音 稳定性能：非常稳定 轻薄程度：非常薄 外形外观：漂亮，高档大气上档次 产品包装：完美