在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机
还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机
之前自己有一个黑色的，用着不错，就照样子又买了一个，黑白双煞。物流很快，基本上下单后第2天到货，产品用起来也很方便，不需要安装刻录软件。
轻薄程度：比想象中薄，很轻便 外形外观：黑色一体，很漂亮 产品包装：包装很严实 稳定性能：刻录稳定，未失败过 读盘速度：读写速度很快，和介绍一样 发货速度很快，很满意的一次购物。满足预期
国产90nm的光刻机
质量很好，很好用，值得购买，会继续光顾，物流很给力。使用非常方便，刻录非常容易，效果非常不错，很好用
据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm
当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行
送货快，电脑城那边便宜，读盘速度刻盘速度，很快，感觉很有威力，前前后后一共买过三个，都是给单位买的，原来的都不读盘了。
读盘速度：读取速度挺快 读盘声音：很安静 稳定性能：兼容性好，win10免驱 产品包装：完美 外形外观：大方
在测试中，进行到第三次曝光时，晶圆的良率已经降低到了一个相当低的值，甚至有时候会低于20%了
如果进行第四次曝光，估计良率会低到离谱，至于第五次、第六次，根本不用想了，良率会接近于0%
目前像ASML的DUV光刻机，一般最多也只进行两次曝光，很少进行多次曝光，因为会大幅度的降低良率，造成成本上升，这是得不偿失的
先锋6X蓝光刻录机外观很美观，做工精细超薄的外表很喜欢，Type-c接口比较通用的接口， 吸入式/支持BD读写/兼容Windows/MAC双系统，支持千年光盘/BDR-XS07CS，正在使用中
物流快得惊人，头一天下午下单第二天早上就到了，神速啊，送家里了，下班后试试产品会追评。
那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
国外光刻机技术及企业简介
前道光刻机对光刻机的精度要求非常高，所以会有按精度分的DUV、EUV等光刻机
而前道光刻机方面，自然ASML是老大，毕竟EUV光刻机，只有ASML能够生产，而国内自研的前道光刻机，分辨率显示还是90nm的
那么有没有可能继续进行第4次曝光，然后就实现了11nm，再进行第5次曝光，然后实现10nm以下呢？理论上可以，但实际不行
先锋品牌值得信赖，一直都是在京东购物，速度快质量好。光驱也是体验很好。读盘速度：很快读盘声音：很静音稳定性能：不挑碟，稳定外形外观：黑色沉稳高大上