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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国发展光刻机,ASML份额65%

中国发展光刻机,ASML份额65%

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中国发展光刻机

日本厂商则在低端的KrF、UV(i-line)上有一定优势,特别是最低端的UV光刻机上,占了大头

可见,整个前道光刻机市场,还是ASML说了算,日本厂商,拿走的是ASML看不上的低端市场,而国产连低端市场都抢不到

为何国产光刻机,出货量为0?首先是上海微电子目前最先进的仅为90nm,也就是KrF、UV阶段,处于低端,这里竞争大,有4家厂商在竞争,ASML、佳能尼康都有

上午下单下午送到神速啊,质量很不错,手感好,非常非常轻便,包装结实完好无损,使用方便速度我是外行觉得挺快的,只用来读碟,其他功能都不会用,满意

大家都知道光刻机是芯片制造过程中,最重要的设备之一

但大家不清楚的是,光刻机也分前道光刻机,后道光刻机两种

前道光刻机,主要是指将芯片电路图,光刻到硅晶圆上的光刻机,也就是芯片制造的前道工序号需要的光刻机,也称之为前道光刻机,其中又分EUV光刻机、DUV光刻机,UV(i-line)光刻机

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而更重要的是,芯片的前道工序非常重要,并且是几百种设备相互配合,而这些生产设备以国外的产品为主,所以国外的光刻机能够相互配合兼容,这是大家多年来合作的结果

而国产光刻机的也许能用,精度也达到了,但晶圆厂们一般情况下可不会冒险,在有国外的、能兼容匹配的国外设备可买的情况下,就不会买国产的,一旦出了问题,就损失惨重

而后道光刻机,同是用于芯片制造的后道工序,比如芯片封装等,另外还有光刻胶制造也需要后道光刻机等

相对而言,前道光刻机更难,更为重要

同时对精度要求也越高,所以前道光刻机又分EUV、DUV、UV光刻机

而DUV光刻机按照精度,又分为ArFi光刻机,用于45-7nm;ArF Dry用于65nm,KrF用于180nm等等

如上图所示,去年全球一共售出478台前道光刻机,其中ASML拿下309台,占比为65%,日本厂商拿下169台,占比为35%

而中国厂商的份额为0

再看看5种分类,可以看到EUV光刻机是ASML独占100%,而DUV中,精度更高的ArFi、ArF Dry均是ASML说了算,占比分别96%、88%

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ASML份额65%

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