而DUV光刻机又分为ArFi光刻机，用于45-7nm；而ArF Dry用于65nm，还有KrF用于180nm等等
目前全球的光刻机厂商，真不多，特别是用于芯片制造的，也就是前道光刻机，全球也就四家，分别是ASML、日本的佳能、尼康、上海微电子
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众所周知，目前所有的芯片制造，均要经过光刻这么一个工艺，所以光刻机是必不可少的半导体设备
而光刻机与芯片的工艺是相对应的，比如EUV光刻机用于7nm及以下，DUV光刻机用于7-180nm
还有UV（i-line）光刻机，主要用于0.35um工艺
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当然，目前全球也在研发其它技术的光刻机，比如多电子束直写光刻机（MEB）、定向自组装技术（DSA）、nm压印技术（NIL）等不同新技术也，希望这些技术有所突破，那么我们就不必依赖ASML了，否则真的太难超越它了
数据显示，全球一共售出478台前道光刻机，被ASML、尼康、佳能瓜分了
其中ASML拿下了其中的309台，占比为65%，接近三分之二的市场
而尼康为6%，佳能为29%
但是在高端EUV光刻机领域，ASML占据了100%的市场，而在次高端的在ArFi和ArF光刻机领域，也分别占据96%和88%的市场
ASML光刻机有多牛:EUV占100%
至于佳能，尼康，则主要集中在最低端的还有UV（i-line）光刻机领域，在次高端的DUV领域，都表现一般
至于国产光刻机，虽然可以用于90nm，但其实晶圆厂们用得非常少，并且主要不是用于前道，也就是晶圆制造这一块，更多是用于后道，比如封测等领域
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中国能造出多少纳米光刻机
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