日本光刻机汞灯
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光刻机巨头阿斯麦CEO:中国不太可能独立造出顶尖光刻机
阿斯麦光刻机出货信息 过去几年，阿斯麦一直在研发高数值孔径（0.55 NA）EUV光刻机
这种EUV光刻机采用最新的光学设计，具有更高的分辨率（由13nm升级到8nm），可以使芯片面积缩小1.7倍，晶体管密度增加2.9倍
台媒报道截图 在发布本次财报前，阿斯麦柏林工厂曾发生火灾
TrendForce集邦咨询向观察者网提供的一份报告显示，阿斯麦德国柏林工厂火灾对晶圆代工及存储器而言，将可能对EUV光刻机设备制造产生较大影响
而根据该机构掌握的信息，阿斯麦所需的零部件亦不排除通过其他厂区取得，加上目前EUV设备交期相当长，因此实际对EUV供应的影响仍有待观察
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目前，阿斯麦垄断着全球最顶尖的光刻机市场，该公司也因此被美国视为围堵中国大陆芯片产业发展的“政治棋子”
而温彼得在做出上述表述的同时还透露，阿斯麦尚未获得向中国大陆出口最先进光刻机的许可，但一些生产成熟制程的光刻机出口并不受限制
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财报显示，阿斯麦2021年总营收为186亿欧元（约合人民币1339亿元），同比增长33%；净利润为59亿欧元（约合人民币425亿元），同比增长66%；毛利率为53%，比上年同期提高4个百分点
阿斯麦CEO温彼得表示，2021年营收中有63亿欧元来自42个EUV系统（极紫外光刻机）订单，比上年多11个
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增加员工数量，也成为阿斯麦应对需求增长的方法
温彼得表示，该公司计划在今年年底前将员工人数从目前的3.15万人增加到3.5万人
他透露，该公司在2021年净增加4000多名新员工，到2022年底，员工人数将比2020年底增加近30%
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