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光刻机气浮导轨
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众所周知，目前芯片的制造流程中，光刻机是必不可少的设备，且从成本来看，光刻机占所有半导体设备成本的20-25%
但是大家也清楚，当前在光刻机领域，ASML是一家独大，特别是EUV光刻机，只有ASML能够生产，而在尖端一点的DUV光刻上面，也是ASML占优，佳能、尼康等品牌，主要占的是低档市场
佳能近日表示，接下来会研发新一代的NIL光刻机，新一代的NIL光刻机，有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺
当然现在的问题是，能够媲美EUV光刻机的NIL光刻机，究竟会在什么时候面市，如果佳能能够实现这个技术，全球的半导体格局都有可能生变
虽然尼康、佳能、上海微电子都有光刻机，但要搞定EUV光刻机，估计是没太多办法的，ASML攒局的能力太强了，已经将利益链捆绑在一起了
为此，这要怎么办呢？当然就要换道超车了，比如佳能，知道在EUV上是不可能打败ASML的，所以一直押注纳米压印光刻（NIL）技术
所谓NIL技术，是将三维结构的掩膜压在晶圆的感光材料上，同时照射光线完成一次性转印，被称为是最有前景的光刻技术之一
目前在NIL的专利上，佳能一支独秀，远超其它任何厂商，并且佳能的NIL光刻机不仅仅是停留在纸面上，而是已经有有生产出来了，在2021年就有了成品，并且被铠侠应用于NAND闪存的生产
佳能想给中国提供光刻机
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如上图所示，这是机构统计的2021年前道光刻机出货量情况，大家可以看到高档的EUV光刻机，ASML完全垄断，低档尼康、佳能有一定的份额
而中国大量需要光刻机，特别是EUV光刻机，这就造成了市场与需求的不匹配，但ASML也没办法啊
读盘速度：快， 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻 稳定性能：目前使用稳定性好 产品包装：包装精致
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