EBL电子束光刻机,大家可能熟悉了,前段时间美国公司Zyvex,就搞出了一台电子束光刻机(EBL),并制造了768皮米(0.768nm),不过这种光刻方式速度慢,不可能用于在规模芯片制造
而纳米压印光刻技术,目前被佳能押注,目前佳能已经能够提供NIL光刻机,比如东芝,就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存,同时在NIL光刻专利中,佳能遥遥领先
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重庆奥特斯光刻机
当然,目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比,NIL光刻机远远达不到EUV的精度,但未来能可就说不准了
DSA光刻,目前没有一定特定的厂商在下注,就像佳能对于NIL技术一样
但如下图所示,在NIL、EUV、DSA三大光刻机上,巨头们都早已布局了
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而台积电、三星这两大晶圆巨头,则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术,都是做了准备,不过EUV光刻的专利相对多一点,再是NIL,最后是DSA
蔡司作为EUV光刻机的重要供应链,主要还是发务EUV,专利上占到了353件,而NIL也有38件,DSA则为0
众所周知,在当前的芯片制造环节中,光刻是其中一个必不可少的重要环节
而光刻就需要用到光刻机,而7nm及以下芯片的光刻时,就需要用到EUV光刻机
EUV光刻机非常复杂,全球只有ASML一家企业能够生产
同时EUV光刻机成本非常高,一台EUV光刻机售价超过10亿元,最新的0.55数值孔径的EUV光刻机,价格更是超过3亿美元(20亿元)
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3种替代方案
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这对于一般的晶圆企业而言,是不可承受的成本,所以一直以来,业界都探讨EUV光刻机的替代方案
目前已经被确定的替代EUV光刻机的方案已经有三种,分别是1、纳米压印光刻(NIL);2、直接自组装(DSA)光刻;3、电子束光刻(EBL)
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