国产euvl光刻机
该公司在过去一年经历许多挑战，市场需求比最大产能高出40%至50%
为提高对客户的支持，该公司选择缩短周期以运送更多设备，主要通过快速发货流程跳过工厂的一些测试，并在客户现场进行最终测试和正式验收
虽然这会使收入确认推迟到客户正式验收前，但能帮助客户提早进行晶圆生产
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光刻机巨头阿斯麦CEO:中国不太可能独立造出顶尖光刻机
台媒报道截图 在发布本次财报前，阿斯麦柏林工厂曾发生火灾
TrendForce集邦咨询向观察者网提供的一份报告显示，阿斯麦德国柏林工厂火灾对晶圆代工及存储器而言，将可能对EUV光刻机设备制造产生较大影响
而根据该机构掌握的信息，阿斯麦所需的零部件亦不排除通过其他厂区取得，加上目前EUV设备交期相当长，因此实际对EUV供应的影响仍有待观察
与目前的0.33 NA EUV光刻机相比，0.55 NA光刻机可以显著提高良率、降低成本和缩短生产周期
当然，0.55 NA光刻机的价格也相当昂贵，每台售价约为3亿美元（约合人民币19亿元），比0.33 NA光刻机售价高出一倍
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阿斯麦NXE3400型EUV光刻机（0.33 NA） 图源：阿斯麦官网 在本次披露财报时，阿斯麦透露，该公司在2021年四季度收到一份TWINSCAN EXE：5000光刻机订单，累计订单达到5份
与此同时，该公司还在2022年初收到下一代高数值孔径EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200的首份订单，下单的还是英特尔
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目前，台积电等生产7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻机，而第一代0.55 NA光刻机TWINSCAN EXE：5000还在研发过程中，预计2023年上市
早在2018年，英特尔就率先向阿斯麦下单第一代0.55 NA EUV光刻机，该公司也有望成为首个0.55 NA EUV光刻机的使用者，并将其用于3nm及以下制程