“02专项”出窍，看国内现状中国目前技术最为先进的光刻机是上海微电子公司生产的90nm光刻机，其实对于光刻机的发展，中国一直在不断尝试，早在06年就成立了02专项，经过十几年的发展，在光刻机各方面已经有了长足的进步
研发的光刻机计划达到EUV级别，但技术原理完全不同，是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机，成本相对低廉，X射线光刻机使用的是X射线，波长介于0.01nm到10nm之间，比EUV极紫外光还要短，因此光刻分辨率要高很多，加上俄罗斯具有雄厚的工业基础，可以一探究竟
俄、日纷纷加紧研制新一代光刻机
上海微电子光刻机视频
另辟蹊径，一心超越EUV近日有消息称俄罗斯正在开发一款全球领先的光刻机，甚至比ASML最先进的EUV光刻机还先进，俄罗斯莫斯科电子技术学院承接了贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）
光刻机主要分为哪些部分呢？其实主要是双工件台、光学系统、物镜系统、控制软件，让我们看看国内在这些方面都有哪些突破呢？双工件台由华卓精科负责，华卓精科成功研发超精密磁浮双工件台系统，打破ASML垄断，使中国成为全世界第二个掌握该项技术的国家
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美国为了阻碍中国半导体事业进步，将中国半导体生产限制在10nm以上，对中国实施了严格的禁售，而作为光刻机最重要的生产商阿斯麦，长期垄断这一市场，摄取高额的利润，阿斯麦发言人更是讽刺得说：“将全套的技术给中国，他们也生产不了光刻机”，此话一出，让无数国人愤怒又无奈
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