国产光刻机技术发展
众所周知，光刻机是工业皇冠上的明珠，由十万多个零部件组成，重达近200吨，集合了世界各国最顶尖的技术，每项技术都是独一无二的，可以说是全球工业技术的巅峰，在半导体制造行业具有极其重要的地位
科益虹源负责光源系统，唯一知道的是国内首台高能准分子激光器顺利出货，打破国外垄断，国望光学参与物镜系统的打造，至于控制软件还有待完善产业链，就差这最后一块版图需要拼接了
另辟蹊径，一心超越EUV近日有消息称俄罗斯正在开发一款全球领先的光刻机，甚至比ASML最先进的EUV光刻机还先进，俄罗斯莫斯科电子技术学院承接了贸工部开发制造芯片的光刻机项目，该项目由俄罗斯政府首期投资6.7亿卢布资金（约合5100万元人民币）
以前台式机用的就是这个品牌的光驱，老品牌值得信赖。读写速度还不错，比较薄，也不占地方，刻录的功能还没试，应该不会差到哪里去。很满意。
美国为了阻碍中国半导体事业进步，将中国半导体生产限制在10nm以上，对中国实施了严格的禁售，而作为光刻机最重要的生产商阿斯麦，长期垄断这一市场，摄取高额的利润，阿斯麦发言人更是讽刺得说：“将全套的技术给中国，他们也生产不了光刻机”，此话一出，让无数国人愤怒又无奈
上海微电子作为02专项的集成设备厂商，目前还没有正式发布28nm的光刻机，由此看来，还需要一段时间，但随着中国铁了心地坚持自主研发，阿斯麦也没闲着，而是提前在中国发布能够生产28nm芯片的光刻机，并在中国大陆大量布局了光刻机相关专利，据说高达3000多项，很明显他要从市场和技术两方面同时限制中国光刻机的发展，始终认为中国才是他的唯一威胁，但俄、日也纷纷入场，阿斯麦将面临更多竞争
刚收到货，装上后刻了一张，很好。原以为先锋DVD内置刻录机停产了。现在看来是谣传，从机子上看是今年5月出厂的。
研发的光刻机计划达到EUV级别，但技术原理完全不同，是基于同步加速器和/或等离子体源”的无掩模X射线光刻机，成本相对低廉，X射线光刻机使用的是X射线，波长介于0.01nm到10nm之间，比EUV极紫外光还要短，因此光刻分辨率要高很多，加上俄罗斯具有雄厚的工业基础，可以一探究竟
一直用先锋刻录机，非常满意的一次网购 读盘速度：快 外形外观：好 稳定性能：好 轻薄程度：-好 产品包装：好 读盘声音：非常小
京东的物流很快，主板的质感很好，感觉的出来做工很精良，目前还没有装机，一直用先锋刻录机很好
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ASML将面临更激烈的竞争
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