即便如此,0.55 NA EUV 光刻机还是得到了芯片厂商的火热预购
在各大芯片厂商中,英特尔的速度最快
今年 1 月 19 日,英特尔向 ASML 订购了最新款高 NA EXE:5200 光刻机
安装十分方便 客服也耐心解答 十分良心的卖家 毫无疑问的好评 一定会下次再来的 特意买回来看我和老婆的结婚纪念照的 很不错的消费经历 你值得拥有
三星方面,据韩媒 Business Korea 报道,李在镕 6 月 14 日造访 ASML 荷兰总部时,拜会了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 等高管,广泛讨论半导体技术的未来、市场前景及 EUV 设备的供应,并取得“额外”的 EUV 光刻机设备
而从工艺技术和制造成本综合因素考量,EUV 光刻机(极紫外光刻)被普遍认为是 7nm 及以下工艺节点的最佳选择
目前,在全球范围内仅有荷兰的 ASML 公司能供应 EUV 光刻机
据介绍,ASML 的 EUV 光刻技术使用 13.5 nm 的波长(几乎是 X 射线范围),在微芯片上形成精细的线条
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我们这个月还收到额外的 EXE:5200 订单
我们目前已有来自三个逻辑芯片和两个存储芯片客户的高 NA 订单
EXE:5200 是 ASML 的下一代高 NA 系统,将为光刻技术的性能和生产力提供下一步的发展
中国买了荷兰芯片光刻机吗
芯片厂商打响“2nm 工艺战”
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为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机?光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一,它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定