中国的光刻机产业链发展得如此缓慢，在于早期中国考虑到先进技术可以通过在海外购买的方式实现，因此导致国产的光刻机即使生产出来也没有厂商愿意使用，毕竟国产光刻机在技术方面不如海外企业
国产光刻机龙头上海微电子成立于2002年，其实它发展光刻机的时间不并不ASML晚太多
同在2002年台积电的技术专家林本坚发明浸润式光刻机技术，然而当时的龙头企业日本尼康和佳能不愿意采用，于是台积电才找上ASML，而当时的ASML相当落魄，寄身于飞利浦的它不受飞利浦重视，但是ASML当时的高管却认为浸润式光刻机技术可能改变市场格局，于是与台积电一拍即合
ASML真的慌了
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光刻机预定参数
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提到中国的光刻机时候，都会谈到上海微电子，然而上海微电子类似于ASML，它自身只能负责部分元件的制造，还得大量外购光刻机元件，最终由它组装成光刻机，正是由于产业链的发展难度大，导致了国内的光刻机在追赶ASML过程中困难重重
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日前媒体报道指国产先进光刻机的产业链正逐渐完善，纯国产光刻机即将出现，难怪ASML之前加紧向中国出售光刻机了，它非常担忧中国光刻机将成为它的强劲对手
正是由于国产产业链在光刻机方面的进展，让中国正成为全球最具潜力的光刻机生产国，这方面是ASML所在的荷兰和尼康所在的日本都无法达到的，产业链已成为中国光刻机的核心竞争优势
两三年后，林本坚和ASML研发的浸润式光刻机被生产出来，显示它的技术优势，浸润式光刻机随即成为市场主流，至2008年ASML超越了尼康和佳能成为全球最大的光刻机企业，此后ASML在光刻机市场的地位不断得到巩固