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光刻机_雕刻机_曝光系统

真的是难……,第一台光刻机发明之前

  随着半导体的蓬勃发展,光刻机也被巴统列为尖端产品,对华实行禁运

国内很少有从事光刻机的专业人才,只能从相关学科中调兵遣将

  底子薄、基础差,还有“巴统”这样的镣铐,落后在所难免

  1973年,美国PerkinElmer公司推出首台扫描投影光刻机,这种光刻机精度高,又改变了把光掩模压在光刻胶上的技术路线芯片生产的良率从10%一夜之间提升到70%

是正品,速度快,刻盘稳定,稳定才是王道,不会坏盘,很满意。买给客户的,对方很满意,刻录速度比较快,声音小,很实用

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先锋刻录机中的战斗机,老品牌值得信赖,刻录很稳定,静音,读取数据很快。读盘速度快,声音轻,很稳定。不愧是光驱界的老大。

  ASML因此担心:“如果不将光刻机卖给中国,五年之内,我们必将掌握所有的EUV光刻技术,十五年之后,ASML公司或将失去行业话语权!”  但归根到底核心技术还是得掌握在自己手上

就在美国持续加码打压的同时,中国光刻机也迎来了史无前例的再次奋起追赶

  人的潜力,在中国第一代光刻机从业者身上发挥到极致

  没有资料,只能靠自己摸索,徐端颐和团队成员边干边学,没日没夜地加班攻关,终于在1980年造出了国内第一台投影光刻机

  1985年,中科院45所在光刻机领域取得了重大进展研制出分步投影式光刻机,被认定达到了1978年美国GCA公司推出的光刻机水准

规划工作者希望通过市场化和运动式的集中攻关并行,换取半导体技术的进步和产业跨越的发展

  但国内如火如荼的造芯运动,却没有成为国产光刻机的幸运时刻

  改革开放,让美、日光刻机厂商紧盯着中国市场,再加上国产光刻机性能本就落后,国内好不容易起来的半导体企业和光刻机市场需求,却成了送给外资的礼物

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真的是难……,第一台光刻机发明之前

真的是难……

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一台光刻机发明之前

以前台式机用的就是这个品牌的光驱,老品牌值得信赖。读写速度还不错,比较薄,也不占地方,刻录的功能还没试,应该不会差到哪里去。很满意。

  这下可捅了马蜂窝

因为美国正竭力要求其对华禁售产品,并且步步紧逼,不但要禁售先进制程的EUV光刻机,还要禁售成熟制程的DUV光刻机

  目前,双方的博弈还在继续中

  美国在继续施压,但已经禁了EUV的ASML,显然不愿意再禁DUV,其CEO彼得·温宁克就表示,“中国是非常重要的全球市场供应方,世界‘不能忽视这种现实’

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