国产光刻机之痛
伴随着晶体管的研发成功,我国相关的科研进度也飞速加快,然而“天公不作美”,尽管我国努力在向着光刻机制造产业前进,但仍然困难重重
而光刻机,也被该委员会列为尖端科技产品,对于中国实施禁运,此时的中国也正式遭遇第一次“高科技卡脖”
从“造不如买”到集中力量攻坚
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使得自身的科研进度逐步减缓,以至于中国的集成电路在科研、教育等方面出现脱节,自主研发的道路越走越窄
取而代之的是数以万千的廉价劳动力,尽管后来尽力去跟进研发,但由于自身发展原因加上大环境影响,导致曾经辉煌一时的半导体盛景已然成为“泡沫”
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恰巧2000年的中国,正是大量爱国人士回国创业的时代,他们带着外国的先进知识和经验,进一步促使中国半导体的产业得到光速发展
2007年,上海微电子宣布研制出90nm的分布式投影光刻机,但由于大多数元器件来自国外,西方国家再次禁运,导致无法量产
这也代表着中国由于自身原因遭遇第二次“卡脖”
历时20年之久,中国光刻机技术一直卡在193nm无法突破,中国随着发展也逐渐认识到半导体产业的重要性,开始探讨突破193nm的方法
而此时的ASML却已经开始了EUV光刻机的研发工作,并且成功在2010年正式研发出第一台EVU原型机
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虽然迫于美国的压力,荷兰无法向中国出售先进制程的光刻机,但庞大的中国市场,让ASML无法拒绝其诱惑力,数据统计显示,在2022年第一季度,ASML共交付62台光刻机,其中21台DUV都成功销往中国
【“求人”不如“求己”】 回顾中国的半导体行业,光刻机的技术发展历程可谓是曲曲折折,但这也无时无刻在警醒着中国,不能长期靠“外来力量”,究其根本还是要靠自己
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