文 | 华商韬略 付磊 时代在发展,科技在进步,如果说科技是一个国家强盛的根基,那么半导体芯片的制造则代表着人类科技的发展水平,而光刻机则是芯片制造中必不可少的一部分
如今,我国能够生产的光刻机是第四代的ArFDE 90nm制程,然而世界上最先进的光刻机生产企业ASML已经可以做到生产EVU的7nm制程量产
后来国家为了解决这一难题,除了抓紧整机制造,还开始扶持一系列配套产业链的发展,在不懈努力下,光刻机产业也成功在2016年实现90nm的光刻机量产
同年,中国的清华大学团队和华卓精科成功研发了光刻机双工作台系统样机,至此中国光刻机技术水平达到除ASML外的“外国”同步水平
虽然迫于美国的压力,荷兰无法向中国出售先进制程的光刻机,但庞大的中国市场,让ASML无法拒绝其诱惑力,数据统计显示,在2022年第一季度,ASML共交付62台光刻机,其中21台DUV都成功销往中国
【“求人”不如“求己”】 回顾中国的半导体行业,光刻机的技术发展历程可谓是曲曲折折,但这也无时无刻在警醒着中国,不能长期靠“外来力量”,究其根本还是要靠自己
读盘速度:刚开使用,读盘写盘都还是很不错的,希望一直质量不错,耐用一些就很棒了
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因此我国的光刻机技术水平仍然需要不断努力突破,才能弥补这个差距
【中国光刻机的三次“突破”】 在1952年,我国步入计算机科研,国家也正是成立了计算机科研小组,而此时的中国相对于外国来讲,GDP仍然差距较大
直到1956年,我国正式开始重视半导体产业,并且成功研制出第一只晶体三极管,从此中国进入半导体的新纪元,然而此时相对世界上第一只三极管的诞生已经过去了长达9年的时间
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此时的中国就已经意识到了其重要性,快速向半导体产业进军
恰巧2000年的中国,正是大量爱国人士回国创业的时代,他们带着外国的先进知识和经验,进一步促使中国半导体的产业得到光速发展
2007年,上海微电子宣布研制出90nm的分布式投影光刻机,但由于大多数元器件来自国外,西方国家再次禁运,导致无法量产
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