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光刻机_雕刻机_曝光系统

国内光刻机再获突破,除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?

国内光刻机再获突破,除ASML之外的光刻机厂商们近况如何?

FPA-6300ES6a光刻机 / 佳能佳能与尼康一样,同样拥有影像光刻机两大业务,但在光刻机上,佳能的主要产品是i线和KrF光刻机,其中主打高分辨率产量的KrF扫描光刻机FPA-6300ES6a可以做到小于等于90nm的分辨率

虽然分辨率不高,但佳能正在以纳米压印技术打造下一代nm级的光刻机,以该技术打造的光刻系统制造成本将比EUV低40%,同时将运行功耗90%

不过这类设备目前仍在研发中,从目前已经展示的结果来看,还只能做到10nm工艺图形

与此同时,佳能计划在宇都宫扩建一座新的光刻机工厂用于加倍产能进一步扩大在半导体光刻机市场的份额

至于面板市场,由于全球通胀和经济下行等原因,PC、电视和智能手机的销量下滑,全球市场相较去年会有所下滑

但佳能认为,从中长期角度来看,被用于各种产品中的OLED面板势必会带来显著的增长

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除ASML之外的光刻机厂商近况如何?

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国内光刻机再获突破

虽然仍在概念阶段,但从论文上看基于该技术打造的光刻系统可以做到10nm的分辨率,0.4的数值孔径和200晶圆/小时以上的吞吐量,这样的参数甚至可以与ASML正在制造的高NA EUV光刻机一较高下了

不过要想造出这样的机器光有概念可不够,与之相关的元件与设备生态都得建立起来才行

所以哪怕是半导体市场有些许低迷,尼康也并没有任何订单因此被取消

值得一提的是,虽然尼康本身目前并没有生产EUV光刻机,却有为EUV系统生产光学组件

不过与EUV光刻机本身一样,EUV的光学组件拥有极长的交期

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