和联想办公电脑完美兼容。刻录光驱所用CD-R(即英文的***pact Disc Recordable)盘的容量一般为700**.它上面所记载资料的方式与一般CD光盘片是一样的,也是利用激光束的反射来读取资料,所以CD-R盘片可以放在CD-ROM上读取,不同的是CD-R盘可以写一次。这次买的先锋老品牌,和Nero10.0软件完美兼容,非常稳定,快。价格也很便宜,性价比非常之好了。
而在精度方面,90nm肯定没问题的,同时经过两次曝光,可以得到45nm的芯片,三次曝光最高可以达到22nm左右的水平
那么能不能四次曝光,五次曝光,将精度提升上去?事实上,在实际使用中,2次曝光就已经很厉害了,像ASML等的光刻机 ,大多也只是进行2次曝光
国际品牌日本先锋,光储存行业老牌巨头出品的入门级内置式DVD刻录机,兼容CD、VCD、DVD读取,CD-R、CD-RW写入,DVD-R、DVD RW双层写入,读盘性能稳定,迅速安静,后背为铝制外壳,非常坚固,还附带安装螺丝,非常高性价比的一款DVD刻录机!强烈推荐!
上午下单,下午不到晚上就到了,配送超快,当地大库发货就是方便,拿着比较轻希望耐用,读盘静音快速,刻录快也很静音,数据写入平稳,没有送刻录软件和数据线,价格便宜,用原有的Nero9赠送版本能识别出新光驱,面板简洁。
不过也有人称,光刻机所指的精度,并不是指能制造芯片的精度,光刻机可以通过多次曝光,提升分辨率的,那么问题就来了,上海微电子的90nm光刻机,最多能生产多少纳米的芯片?据资料显示,目前上海微电子的90nm的光刻机,主要用于电源管理芯片、LCD驱动芯片、WiFI芯片、射频芯片、各类数模混合电路等
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其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机,只有ASML能够生产
而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机,但佳能、上海微电子却还停留在90nm,只能生产低端的光刻机
光刻机工作原理图
京东的物流很快,主板的质感很好,感觉的出来做工很精良,目前还没有装机,一直用先锋刻录机很好
究竟能制造多少纳米的芯片?
“光刻机”被称之为传统芯片制造的工业母机,因为它必不可少,同时光刻机的好坏,精度,决定了芯片的精度、良率等等
不过大家也清楚,光刻机目前全球只有4家厂商能够生产,分别是ASML、尼康、佳能、上海微电子,ASML是荷兰企业,尼康、佳能是日本企业,而上海微电子是中国企业
因为实践表示,3次曝光会导致良率大幅度下降,4、5次良率可能会低到没法想象,晶圆厂们的成本高到没法承受,不如买一台更高级光刻机,成本还低一些
所以,目前国内在努力的研发28nm的光刻机,这样经过两次曝光后,可以搞定14nm,至于7nm工艺,那最好还是期待EUV光刻机,用28nm的来曝光三次,良率没法看
读盘速度:读盘速度很快 读盘声音:读盘运行声音很轻不注意听几乎听不到声音 轻薄程度:宝贝很轻巧,拿在手上没多少重量 外形外观:外观大气,很喜欢