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光刻机工厂,芯片厂商打响“2nm 工艺战”

光刻机工厂,芯片厂商打响“2nm 工艺战”

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ASML 共售出 136 台 EUV 光刻机在 2022 SPIE 高级光刻会议上,ASML 也披露了 EUV 光刻机的出售数据

数据显示,截至 2022 年第一季度,ASML 已出货 136 台 EUV 光刻机,约 7000 万个晶圆曝光

光刻机工厂

发力 0.33 NA EUV 光刻机的同时,ASML 也在冲刺研发 0.55 NA EUV 光刻机

ASML 高 NA 系统路线图ASML 发言人向媒体介绍,更高的光刻分辨率将允许芯片缩小 1.7 倍、同时密度增加 2.9 倍

用于大批量制造,以创建先进的微芯片(7 nm、5 nm 和 3 nm 节点)高度复杂的基础层,并支持新颖的晶体设计和芯片架构

日前,在 2022 SPIE 高级光刻会议上,ASML 介绍了 EUV 的最新进展

根据 ASML 最新消息,新款 EUV 光刻机正在研发中,NA 将从 0.33 增加到 0.55(NA 是光学系统的数值孔径,表示光线的入射角度),2nm 工艺的芯片都将依赖其实现

其中,有 9 台 EUV 光刻机在今年一季度售出,与去年四季度售出 12 台 EUV 光刻机相比,环比减少 25%

数据显示,ASML 去年共售出 42 台 EUV 光刻机

根据 ASML 今年稍早前发布的 2021 年第四季度和全年财报,ASML 去年的 EUV 光刻机销售额为 63 亿欧元(约合 447 亿元人民币)

”此外,根据台积电早前消息,公司今年资本支出为 400 亿美元至 440 亿美元,多数用于先进制程

此次三星若能争取到更多 EUV 光刻机,则今年至少可获得 18 台,不过三星未详细说明此次获得的“额外”EUV 设备内容

芯片厂商打响“2nm 工艺战”

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