3纳米代工市场规模2026年将达到242亿美元，比今年（12亿美元）增加20倍以上
三星电子、台积电、英特尔等主要半导体企业开始引进EUV设备，随着工程技术的发展，预计3纳米将成为核心先进工艺
你可以说推动工艺发展最大的功臣是智能手机芯片，但其他应用对高密度的需求同样不可小觑，因为这对它们来说也就意味着更高的存储容量和带宽、更高的算力
Intel、台积电已下单荷兰半导体设备厂商ASML（阿斯麦）正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备
很好的刻录机，一直用这个牌子，便宜实惠，上一个用了5年，里面的皮带不行了，就又买个一个！
读盘速度：挺好的，～～～ 读盘声音：很小～～～ 稳定性能：好好 轻薄程度：方便清小 外形外观：时尚时尚 产品包装：还好啦
如今的深度学习在大规模模型的爆发下，所需算力每几个月就会翻一番，但现在能效比已经成了优先级更高的指标，要想同时满足性能和算力的话，主要方法有四种：一是换一种系统级计算架构，比如DSA架构；二是充分利用3D设计，也就是我们常说的3D封装和堆叠技术；三是从晶体管架构上创新，譬如纳米管、纳米片、CFET和原子沟道等；第四个则是目前看来最快捷的一条路线，通过光刻技术的发展直接提升密度
归根结底还是我们的晶体管密度需求仍在不断攀升，但我们需要明白这个需求并不是线性增长的
新世纪的20年代，很可能成为深度技术发展的黄金十年，比如边缘AI芯片、基于CMOS的NIR/SWIR成像器、光电集成的片上激光雷达等等
特别是用于生产制造2nm、1.8nm等制程的High-NA EUV光刻机初期版本将于明年年末引进，预计2025年末将正式商用
ASML明年交付首台High-NA EUV光刻机ASML首席技术官Martin van den Brink日前受访时表示，目前公司正有序推行其路线图，在EUV之后是High-NA EUV技术
超级好的光速啊，十年前买的一个一直都在用，用不坏的先锋，还会再买这个牌子的。。。。
产品包装：包装妥当，严实 稳定性能：稳定 读盘声音：较小 外形外观：小巧 轻薄程度：轻薄 读盘速度：很快 先锋不愧是光驱第一品牌，以前用过先锋的CD刻录机，从没有废盘，刻录质量杠杠的！
2nm、1nm全靠它!High-NA EUV光刻机2025年末将正式商用世界28纳米光刻机
京东快递真快，为什么没塑封，是消毒吗，made in china。外表完好，一会儿试试吧，非常轻，都1000多了，AC适配器也不给一个
读盘速度：非常快也非常的有效率 读盘声音：基本听不到什么声音，非常安静，掉根针都能听到针的声音 稳定性能：即插即用，放进光碟就能读到想要的内容，非常的值得拥有 轻薄程度：材料用的非常好，又薄又轻方便携带使用 外形外观：黑金刚好看最主要大家都知道，耐脏，本人比较懒。
先锋刻录机总体感觉不错，刻录机的读盘速度很快，刻录的速度也很快，运行的声音都很小，刻录机的运行性能很是稳定，是给公司购买的，使用部门反馈效果很好，而且价格也是实惠，京东的快递速度很快，京东的快递小哥服务态度很好
