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这种方式比传统光刻分辨率更高，加工速度也不受影响，但它对材料控制的要求特别高，目前还没有成熟的解决方案，还处在实验室阶段
而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院，他们都建立了自组装产线，进行相关研究，三星在DSA上申请的专利最多，也非常重视这一 技术
没有光刻机华为怎么设计麒麟
在光存储这个领域中，日本的先锋品牌的确独树一帜，稳定高效，特别是在刻录行业中质量真的是杠杠的，前置面板大黑，尽显优雅高贵，LOGO是白色的，装在机箱中大气豪华，这个品牌的刻录光驱可以放心的使用好多年，值得信赖。读盘速度：速度很快，质量挺好。读盘声音：声音小没噪音稳定性能：很稳定。轻薄程度：适中吧外形外观：外观都一样产品包装：包装结实!
这款蓝光刻录机价格太硬了，我等了一年终于降价了，赶紧入手以前有个先锋的普通刻录机，用了十几年了还在用，刻录杠杠的，没一点问题，声音特别小，性能稳定，外观大气，读写速度都很快，质量绝对硬！！
外观好看，经济实用 品质优良， 结实耐用，价格实惠，使用满意，特别好用，非常棒，名牌，质量很好，拷贝静音，值得推荐。
而EUV光刻机，则用于7nm及以下的芯片制造，且只有ASML一家企业能够生产
考虑到ASML是集全球之力造EUV光刻机，且与上下游形成了利益同盟，所以其它厂商想在EUV光刻机上超过ASML，基本上不可能的
质量非常好，与描述的完全一致，非常满意，很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，送货师傅服务态度很好，送货速度很快，很满意！
不过可惜的是，当前我们似乎在这三种方案上都不太突出，当然也有可能是保持低调，不愿意秀出实力来，但不得不说，研究EUV光刻机，或者研究能替代EUV光刻机的技术，对于中国芯而言，是势在必行，再难也要上的，否则中国芯就会一直被卡脖子，你觉得呢？
所以其它厂商，只能另想办法，换道超车，用另外的技术来替代EUV光刻机
目前已经有三大方案，都被认为是可以替代EUV光刻机方案的，并且被大家重视，很多企业更是投入巨资研发，以期有所突破，进而替代EUV光刻机
第一大方案是NIL纳米压印，其原理类似于打印机一样，先在模具上刻上纳米电路的图案，再把这个图压在硅片的感光材料上，同时用紫外线照射，就能完成转印，这种方式可以达到至少2nm的精度
三种EUV光刻机替代方案
第二大方案是电子束光刻机(EBL)，用高能电子束来替代极紫外线，电子对应的波长只有0.04纳米，加工精度就比EUV又高了不少
目前在这一块比较突出的是美国，前不久前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm）
很好用，读碟效果很好，以前的老光驱有的不能读的碟这个基本都能读出来，满意。买了几次，现在的刻录机价格便宜，质量不错，刻盘坏的很少，值得购买。