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光刻机_雕刻机_曝光系统

ASML陷入众叛亲离境地,国产光刻机最新突破

除了设备过于昂贵之外,EUV光刻机耗电量也是剧增,据悉台积电的耗电量占中国台湾省衡耗电量比例达到8%,如果引入第二代EUV光刻机,预计耗电量将进一步上涨,不知中国台湾能否撑得住,昂贵的电费让台积电已逐渐难以承受,这都导致采用光刻机的芯片制造工艺成本昂贵

读盘速度:读盘速度挺快的,稳定性很好 读盘声音:目前感觉声音比较正常,算是比较安静的 稳定性能:性能稳定不会飞盘 轻薄程度:普通的标准大小吧 外形外观:整体外观密闭性挺好,材质看着也很不错 产品包装:包装设计觉为艺术规范很结实

正是由于成本问题,日本、美国的芯片行业才寻求发展无需EUV光刻机的芯片制造工艺,降低成本

此前ASML顺应美国的要求不对中国出售EUV光刻机,今年下半年更进一步连14nm以下的DUV光刻机都不对中国出售,然而如今日本和美国都绕开EUV光刻机,将彻底颠覆ASML的主业--光刻机业务

日本和美国的芯片行业研发摆脱EUV光刻机的芯片制造工艺,在于采用EUV光刻机的芯片制造工艺成本实在太高了,用于7nm及以上工艺的DUV光刻机价格在3000-5000万美元,而第一代EUV光刻机价格达到1.2亿美元,第二代EUV光刻机价格达到4亿美元

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ASML陷入众叛亲离境地,国产光刻机最新突破

据悉日本已成功突破5nm工艺,这是在无需采用ASML的EUV光刻机情况下达到的,此前美国也有企业研发了无需EUV光科技的工艺,似乎ASML正陷入众叛亲离的局面

由于成本过于昂贵,台积电和三星研发的3nm工艺如今都面临无客户采用的问题,甚至有消息指苹果考虑到成本问题预计明年的A17处理器仍然采用成熟的4nm工艺而不是3nm工艺

无独有偶此前美国的芯片企业美光也成功研发出了无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺,显示出美国芯片企业也意图摆脱对ASML的依赖,其实美国芯片业界对ASML的打击并不止于此,它们甚至在挖ASML的根

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国产光刻机最新突破

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ASML陷入众叛亲离境地

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