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光刻机_雕刻机_曝光系统

中国光刻机研究成功,“突破点”出现

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面对美拉拢的时候,日半导体可谓是表态很迅速,直言他们已经在参考哪一些可以跟随限制了

显然,那个时候日半导体是给老美释放了一个不错的信号

只是在这番表态之后,日半导体久久没有实际上的行动,不仅如此在中途还内部联合了多家企业组建了欲攻破2nm等尖端技术的联盟

要知道,在美限制新规出炉之后,率先拉拢的就是荷兰和日半导体

首先是因为在尖端技术领域突破上,美半导体和日半导体有先联合的基础

其次是,在光刻机市场上ASML是一个重点,加之日本也有光刻巨头,并且他们均表示了要加码中国大陆市场上的出货

拉扯了那么久的DUV光刻机是否会被限制的事情,还是迎来了一个我们并不想看到的局面——“荷兰正在同老美商量对于实施半导体设备出货限制的事情进行谈判,最早会在下个月达成新的协议

”从之前荷兰明确表态不跟随到现如今的情况来看,DUV光刻机的出货新规很有可能就是限制出货,而一旦如此,也说明在老美拉拢盟友的过程中已经打开了一个缺口,余下的老美估计会想方设法的拉拢到同样限制的阵营当中

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足以见得,日半导体不是那么想要跟随限制

这一点从现在老美直接施压也可以看出一点苗头

那么基于这个情况下,想要日半导体跟随老美的限制很大可能是存在意外的

更凑巧的是,在传出了老美直接的要求之后,日半导体之前内部所建立的芯片联盟有了新的动向,那就是短时间内就将研发提上了日程

中国光刻机研究成功

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中国光刻机研究成功,“突破点”出现

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突破点”出现

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要说这两者没有关系,估计外界也会有所质疑

只要日半导体的态度有所改变,荷兰方面的态度也有变动的机会

毕竟,美限制起到作用有一个前提条件,那就是“盟友加入”,并且还承诺过美企要拉拢其他的企业限制,才会对美企做出同样的限制

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