并且Zyvex还接受电子束光刻机订单，称只需要6个月就可以交货，很明显，这种技术也能够替代EUV光刻机，唯一的用这种方式，速度非常慢，但后期还有改进空间
第三大方案则是自组装（DSA）光刻，所以谓的自组装光刻，就是用一些化学物质，诱导光刻材料在硅片上自发组成我们需要的结构，中间不需要光刻机参与
低纳米光刻机荷兰
这种方式比传统光刻分辨率更高，加工速度也不受影响，但它对材料控制的要求特别高，目前还没有成熟的解决方案，还处在实验室阶段
而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院，他们都建立了自组装产线，进行相关研究，三星在DSA上申请的专利最多，也非常重视这一 技术
给小孩读他们学习的光盘用的，不错。太给力了。真的挺好的，品质一流，很满意的一次购物。物流一如既往地快，包装很好，一点也没有破损。这个宝贝真是不错，挺喜欢的，用起来挺好的。会再来的，这是一次很开心的购物，体验十分不错。价格也十分优惠，价优物美，很喜欢。一直很信赖京东，相当满意的购物体验。质量非常好，与卖家描述的完全一致，非常满意,真的很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，物流公司服务态度很好，运送速度很快，很满意的一次购物。感谢京东为我们提供的良好购物体验！
所以其它厂商，只能另想办法，换道超车，用另外的技术来替代EUV光刻机
目前已经有三大方案，都被认为是可以替代EUV光刻机方案的，并且被大家重视，很多企业更是投入巨资研发，以期有所突破，进而替代EUV光刻机
第一大方案是NIL纳米压印，其原理类似于打印机一样，先在模具上刻上纳米电路的图案，再把这个图压在硅片的感光材料上，同时用紫外线照射，就能完成转印，这种方式可以达到至少2nm的精度
第二大方案是电子束光刻机(EBL)，用高能电子束来替代极紫外线，电子对应的波长只有0.04纳米，加工精度就比EUV又高了不少
目前在这一块比较突出的是美国，前不久前段时间美国公司Zyvex，就搞出了一台电子束光刻机(EBL)，并制造了768皮米（0.768nm）
非常小巧的产品，出乎意料特别的轻，有一种不能置信的感觉。具体速度还是可以的，质量自然刚刚的，过去一直使用这个品牌，今次也不例外。声音很安静，基本没有振动，当然我有适合的防震设备。很适合外带的小家伙，移动方便。
先锋的刻录机非常好，老品牌了，以前就经常使用，质量好，价格实惠，非常满意，快递非常快！
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很遗憾
佳能一直非常重视NIL纳米压印技术，甚至在2021年就造出了机器，被铠侠用于NAND闪存制造中，只不过目前精度还不太够，不能替代EUV光刻机
但在NIL技术上，佳能的专利最多，技术最成熟、最先进，很明显，佳能就押注这个技术了