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光刻机_雕刻机_曝光系统

荷兰光刻机出口中国美国阻,三种EUV光刻机替代方案

佳能一直非常重视NIL纳米压印技术,甚至在2021年就造出机器,被铠侠用于NAND闪存制造中,只不过目前精度还不太够,不能替代EUV光刻机

但在NIL技术上,佳能的专利最多,技术最成熟、最先进,很明显,佳能就押注这个技术了

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不过可惜的是,当前我们似乎在这三种方案上都不太突出,当然也有可能是保持低调,不愿意秀出实力来,但不得不说,研究EUV光刻机,或者研究能替代EUV光刻机的技术,对于中国芯而言,是势在必行,再难也要上的,否则中国芯就会一直被卡脖子,你觉得呢?

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并且Zyvex还接受电子束光刻机订单,称只需要6个月就可以交货,很明显,这种技术也能够替代EUV光刻机,唯一的用这种方式,速度非常慢,但后期还有改进空间

第三大方案则是自组装(DSA)光刻,所以谓的自组装光刻,就是用一些化学物质,诱导光刻材料在硅片上自发组成我们需要的结构,中间不需要光刻机参与

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三种EUV光刻机替代方案

所以其它厂商,只能另想办法,换道超车,用另外的技术来替代EUV光刻机

目前已经有三大方案,都被认为是可以替代EUV光刻机方案的,并且被大家重视,很多企业更是投入巨资研发,以期有所突破,进而替代EUV光刻机

第一大方案是NIL纳米压印,其原理类似于打印机一样,先在模具上刻上纳米电路的图案,再把这个图压在硅片的感光材料上,同时用紫外线照射,就能完成转印,这种方式可以达到至少2nm的精度

荷兰光刻机出口中国美国阻,三种EUV光刻机替代方案

荷兰光刻机出口中国美国阻

这种方式比传统光刻分辨率更高,加工速度也不受影响,但它对材料控制的要求特别高,目前还没有成熟的解决方案,还处在实验室阶段

而对这一技术研究较深的是比利时微电子中心、麻省理工学院,他们都建立了自组装产线,进行相关研究,三星在DSA上申请的专利最多,也非常重视这一 技术

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