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光刻机_雕刻机_曝光系统

ASML的EUV光刻机,光刻机冷却设计

ASML的EUV光刻机,光刻机冷却设计

那么问题来了,为何ASML在半导体领域无法被替代?其实原因简单,ASML并不是一家企业在战斗,甚至也不是一个国家在战斗,ASML是整合了全球先进工艺,将美、欧、日、韩、台绑在一架战车上,大家一起战斗,攒局无敌

二是找到能够一批上、下游都能够替代的厂商,这就更加困难了,所以其它的光刻机企业,在EUV这个赛道上,是不太可能与ASML竞争的,除非换赛道,以另外一种技术试

目前佳能是押宝纳米压印光刻(NIL)技术,而美国有企业在在搞电子束光刻机(EBL),还有企业在研究直接自组装(DSA)光刻,X-射线光刻等,都是绕开EUV技术

ASML在半导体领域的地位不用多说,它家的光刻机占了全球70%+的份额,而EUV光刻机的份额更是高达100%,至今没有第二家厂商能够生产出EUV光刻机

所以目前任何需要大规模制造7nm及以下制程晶圆厂,都得求ASML,因为一旦没有EUV光刻机,7nm及以下的芯片就制造不出来

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过去的这许多年,有众多的企业都想替代ASML,比如尼康、佳能,甚至还有上海微电子,大家都在光刻机上发力,想推出EUV光刻机,甚至换一个方向,用另外的技术来实现EUV光刻机的功能,但暂时都没有成功

如上图所示,这是ASML光刻机产业链中的主要核心部分,分国上、中、下游三个部分

光刻机冷却设计

ASML主要处于中游,就是将上游的这些核心厂商、核心元件聚拢,然后自己再组装成一台光刻机

而下游则是台积电三星、英特尔这三家,这三家为了支持ASML,曾入股ASML,成为ASML的股东,形成了利益共同利

所以很明显,ASML是将全球最顶尖的企业,都拉到了自己的阵营中,其它光刻机企业,要想制造出EUV光刻机,一是从ASML这撬墙角,将核心供应商撬走,但这太困难了

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ASML的EUV光刻机

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