2012年，中国科学院光电技术研究所承担了超分辨光刻装备的研制任务，经过近7年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，突破了高均匀性照明、超分辨光刻镜头、纳米级分辨力检焦及间隙测量和超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，其采用365纳米波长光源，单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米
很好，经过测试质量很好，刻录光盘很快。刻录稳定，一直很多年都在用先锋的，没有问题！非常满意
荷兰光刻机起火华为
读盘速度：速度还是相当快的，大概2秒左右。 读盘声音：声音很小，主要是用来放音乐?的。 稳定性能：性能指标还可以，支持各种格式的光盘?兼容性比较好。 轻薄程度：大小刚刚好，能放在光驱位，要螺丝固定。 外形外观：外观很别致，很简洁。 产品包装：包装盒完好，还送了数据线。
读盘速度：快，对办公用来说足够了 外形外观：颜值派很喜欢，有质感，简洁大方 轻薄程度：中等吧 稳定性能：陆陆续续买过一些先锋的产品，整体而言很耐用，使用无特殊状况。 产品包装：无破损，保护得当。物流也很快。 这不是一个好评模板，但也算是一个好评模板，买东西评价也是一个很有必要的事情，分享使用的的好与不好，为他人提供建议，可以做参考，自己每次买东西前也会浏览别人的评价，看完也会觉得更加踏实，卖家秀令人迷惑，买家秀才更为真实，也可以让我们冲动的时候冷静一下头脑，更清醒的考虑到底适不适合自己，还需要不需要买。
具体是将入射光照射在透镜表面的小探针上，然后探针表面的电子就会有序的震荡，从而激发产生波长非常短的等离子体，然后在光刻胶上刻出非常小的图形
而ASML的光刻机，是将激光束经过一些列反射整形后，过滤掉衍射，然后投射经过光刻模板，再投射到硅片上
总之，这款表面等离子体超分辨光刻装备的成功研发，打破了传统光刻机的路线格局，形成一条全新的纳米光学光刻技术路线，绕开了国外相关领域的技术壁垒，具有完全自主知识产权，其关键技术指标达到超分辨成像光刻领域的国际领先水平
很好，刻碟顺畅，外观经典，包装标准，安装简单，配件齐全，质量可靠，经久耐用。东西很不错，试用了后觉得效果很好，快递速度也很快，收到后整体满意。
已经实际应用
用起来方便，装好也完美，很契合原机。比较轻薄啊，很轻，读盘性能可以，等着试试刻录
我在之前的视频里讲过，华为的光源专利，其目的就是先对强光源进行去相干处理，以达到匀光效果，这样才能保证光刻工艺的正常进行
ASML光刻机的精度跟光源的波长、物镜的数值孔径是有关系的，波长越短越好，刻机分辨率就越高，制程工艺越先进
它的验收成功，也标志着我国研制出的世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备，具有重大意义
因为，超分辨率光刻机与ASML光刻机采用了完全不同的技术路线
ASML最出名的当属EUV光刻机和DUV光刻机