无论是28/45/65/90nm和0.18um这些节点均对第四代浸没式光刻机有着应用需求
终端市场推动了成熟制程的产品越来越多，比如汽车、IoT、传感器、功率、MCU等，成熟制程市场空间不断增长
不过有一个坏消息就是， 美国正在向ASML施压，希望他们禁止销售最先进的第四代浸没式光刻机给中国，而这相比于EUV极紫外光刻机，所造成的影响将更为严重
光刻机为什么重要，就是因为只有通过光刻机，把电路图和其他电子元印在硅片上，才有制造出芯片的可能光刻机需要在一块指甲盖大小的硅晶片内，映射出几十亿甚至上百亿个微小的单元，目前最先进的光刻机能够加工的最细线条已经达到13nm
这个世界上并不存在5nm光刻机?
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这也是为什么其技术难度高的原因，一个看似简单的原理，在超高精度的制约下需要结合光学 材料 控制 电子 机械化学等最顶尖的技术，才能最终完成这以类人历史上几乎最精密的机械
光刻机的零件90%使用了世界最先进的加工技术，甚至一些接口都要工程师用高精度机械进行打磨，尺寸调整次数更可能高达百万次以上
然而，这些方式使得我们光刻机的制造难度以及制造成本急剧增加，并且已逐步逼近物理极限
所以ASML想要研发出下一代的光刻机，2030年前还是很难完成的
事实上，现在全球市场上，第四代浸没式光刻机仍然是当前半导体制造的主力设备
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电子书光刻机
本人电脑配光驱是并口的，现在换了新主板已经没了并口，只得配串口光驱。之前用的是先锋光驱，用了多年性能依旧良好，所以这次还是选先锋。这款光驱质量不错，读盘很快，刻录效果也不错，声音很小，而且价格很实惠。
中国的目标，是要在2030年造出EUV极紫外光刻机，大家可能觉得，ASML2010年就已经开始量产光刻机，这会不会太晚了，事实上，这并不算太晚，我们通过不断地缩小所采用的光源的波长（EUV光源13.5nm），增强投影物镜的最小线条成像能力（提高数值孔径1.3）等方式，不断缩小能够加工的最小线宽