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光刻机_雕刻机_曝光系统

对芯片国产化影响有多大?|硅基世界,中国光刻机核心部件

众所周知,目前主流的光刻机主要有两种:一种是极紫外线EUV光刻机,用于7nm及以下的芯片光刻;另外一种是DUV光刻机,称之为深紫外线光刻机,主要用于10-130nm光刻机,只有ASML能生产

尽管DUV光刻机不是最先进的,但在多重曝光的情况下,最高也能做到10nm制程,由于无需获得美国出口许可证,相关产品一直正常给长江存储上海华虹厂商供货

中国光刻机核心部件

照例给予好评!给自己给朋友同事亲戚装机多台,常选LG和先锋等品牌光驱。对这两个品牌光驱(刻录机)充满信赖。现在光驱(刻录机)使用频率越来越低,装机后安装原版随机驱动还是光驱(刻录机)比较方便。现在向法院提交视频图片,也需要刻制光盘,还的满足职业需求。现在的价格常搞活动,也很便宜。

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读盘声音:声音小 轻薄程度:比较有质感 外形外观:质量看着很好 产品包装:包装完美 读盘速度:运行快 稳定性能:特别稳定

2、美国通过ASML的上市公司身份入股

随着其在DUV时代取得成功,英特尔入股ASML叠加并购加速,2012年,英特尔、三星台积电共同买入ASML 23%的股权,获得了ASML EUV光刻机的优先供货权,成为了利益共同体

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对芯片国产化影响多大?|硅基世界

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DUV光刻机又有两大路线,其中一种就是ASML为代表的浸润式光刻机,以水为介质,采用193nm波长的光线,在水中折射后,变成132nm,而这种设备一次曝光可以生产45-28nm的芯片,价格比EUV便宜一半

对芯片国产化影响有多大?|硅基世界,中国光刻机核心部件

媒体分析称,如果ASML被禁对华出口DUV,其收入可能会萎缩5%-10%

那么,为什么ASML这样一家光刻机巨头企业,减少要屈服于美国的管制?根据中国科学院ICAC,背后主要有三个原因:1、美国在DUV、EUV技术方面渗入ASML

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方正证券发布研报称,光刻机作为前道工艺七大设备之首(光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机、其他设备),价值含量极大,技术要求极高,在制造设备投资额中单项占比高达23%

而目前,全球前道光刻机被ASML、尼康佳能垄断,当前实现光刻机的国产替代势在必行,具有重大战意义

一直用多大先锋的外置刻录机,用于投标刻录光盘的。实事求是!真是皮实耐用!!!第一台用了7年,这才换第二台,绝对的物超所值!良心评价,我个人认可了这个牌子,推荐大家 稳定性能:用了7年才出现一点点问题

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