ASML 光刻系统的发展一直是通过减少波长和增加数值孔径来进行演进
目前，ASML 的主力产品是 0.33NA EUV 光刻机，并正在大批量生产中
对于 0.33 NA 系统，ASML 正致力于通过增加吞吐量和降低总能量来减少每次曝光所需的能量
光驱的声音很小，质量非常棒。先锋是一个比较老的品牌。 购物体验非常好，双11买的当天下单第二天就到第二天就到货了。光驱的声音很小，质量非常棒。先锋是一个比较老的品牌。 购物体验非常好，双11买的当天下单第二天就到第二天就到货了。
携带方便功能强很好用，读碟广泛很好的刻录机。读盘声音：小产品包装：严实稳定性能：稳定外形外观：好读盘速度：很快轻薄程度：适中
中国光刻机研究成功
物流很快，东西也不错。。。目前读盘很好，刻录还没有用呢，手头没有空白盘。。还是内置的刻录机稳定速度快。。。非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学 非常好用 看了说明书就知道了 操作简便易学
实用主义，虽然弹出来那种感觉很山寨，但是好歹没什么问题，随便刻录了一张CD，效果很不错！
质量非常好，与描述的完全一致，非常满意,真的很喜欢，完全超出期望值，发货速度非常快，包装非常仔细、严实，服务态度很好，运送速度很快，很满意的N次购物
京东快递，一如既往的质量保障，送货速度快，快递员态度好，继续支持。已试过，静音速度快，这是我第一个外置光刻一体光驱，真心不错，值得推荐
给单位同事购买的商品，没有反馈说不好用，肯定是很好用了！非常好，正品，刻录机只用先锋，完美的使用感受
即便如此，0.55 NA EUV 光刻机还是得到了芯片厂商的火热预购
在各大芯片厂商中，英特尔的速度最快
今年 1 月 19 日，英特尔向 ASML 订购了最新款高 NA EXE:5200 光刻机
三星方面，据韩媒 Business Korea 报道，李在镕 6 月 14 日造访 ASML 荷兰总部时，拜会了 ASML 首席执行官 Peter Wennink 等高管，广泛讨论半导体技术的未来、市场前景及 EUV 设备的供应，并取得“额外”的 EUV 光刻机设备
ASML 官宣新一代光刻机研发进展
为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定
更短的波长可以打印出更小的特征；更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线，也能够带来更好的分辨率
英特尔称，公司将成为 ASML 第一台 EXE:5200 的买家
与 EXE:5000 相比，EXE:5200 预计将带来几项改进，包括更高的生产率等等
在最新款高 NA EXE:5200 光刻机的订购方面，台积电、三星也有所动作