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光刻机_雕刻机_曝光系统

光刻机规格,3种替代方案

台积电三星这两大晶圆巨头,则是NIL、EUV、DSA三大光刻技术,都是做了准备,不过EUV光刻的专利相对多一点,再是NIL,最后是DSA

蔡司作为EUV光刻机的重要供应链,主要还是发务EUV,专利上占到了353件,而NIL也有38件,DSA则为0

读盘速度:刚开使用,读盘写盘都还是很不错的,希望一直质量不错,耐用一些就很棒了

众所周知,在当前的芯片制造环节中,光刻是其中一个必不可少的重要环节

而光刻就需要用到光刻机,而7nm及以下芯片的光刻时,就需要用到EUV光刻机

EUV光刻机非常复杂,全球只有ASML一家企业能够生产

同时EUV光刻机成本非常高,一台EUV光刻机售价超过10亿元最新的0.55数值孔径的EUV光刻机,价格更是超过3亿美元(20亿元)

京东快递就是快,昨天晚上下单,第二天上午就到货了,已经安好了,试了一下非常满意。读盘很安静,几乎没有噪音。附送的软件很实用

挺好用的,多了一根电源线,对功率小的笔记本很有好处,刻录速度不错,不易刻录失败。好用。白色颜值很高

以前一直用三星,先锋也是大品牌,据说造假很厉害,信赖京东自营,这次试试。光驱对我来说是必备硬件,仁者见仁智者见智,有人习惯了U盘,某些特殊情况下,还是光驱方便。读盘速度很快,噪音也不大,做工和三星一样精细,目前用着很稳定,产品包装也比较到位。背面还有好几处防伪的刻字。很不错的一款产品。

这对于一般的晶圆企业而言,是不可承受的成本,所以一直以来,业界都探讨EUV光刻机的替代方案

目前已经被确定的替代EUV光刻机的方案已经有三种,分别是1、纳米压印光刻(NIL);2、直接自组装(DSA)光刻;3、电子束光刻(EBL)

光刻机规格,3种替代方案

大品牌都是值得信赖的,刻录很稳定,读盘基本没有声音。。真的是即插即用,小巧好看,驱动非常快速,播放顺顺利利的,刻录也非常给力,我第一张就刻录就成功了,太顺利了吧!好东西

EBL电子束光刻机,大家可能熟悉了,前段时间美国公司Zyvex,就搞出了一台电子束光刻机(EBL),并制造了768皮米(0.768nm),不过这种光刻方式速度慢,不可能用于规模芯片制造

而纳米压印光刻技术,目前被佳能押注,目前佳能已经能够提供NIL光刻机,比如东芝,就一直想用NIL光刻机来生产NAND闪存,同时在NIL光刻专利中,佳能遥遥领先

当然,目前NIL光刻机还不能与EUV光刻机相比,NIL光刻机远远达不到EUV的精度,但未来能可就说不准

DSA光刻,目前没有一定特定的厂商下注,就像佳能对于NIL技术一样

但如下图所示,在NIL、EUV、DSA三大光刻机上,巨头们都早已布局了

光刻机规格

新开办公司,之前配置过四台,这一次配了一台全是办公高配的,物流快,发票齐全,自己组装价格质量也还放心,希望京东无假货!上个全图吧。组装花了两小时。一次点亮

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3种替代方案

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