国望光学对光刻机研发
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先锋内置DⅤD刻录光驱读盘很稳定，声音还好，使用方便。可以播放4k电影，可以刻录4k电影，功能强大，强烈推荐大家购买。
刻录机一直买先锋，刻盘成功率高，废盘很少，买刻录机就买先锋。这款刻录机外观简洁大气，做工很好，使用也非常好，读取刻录都很棒，还没刻过坏盘！
先锋老牌子，读碟稳定，写碟快，噪音也很低，满意满意。很好用，噪音小，速度快，送货很快，最重要的是便宜。
用于生产 2nm 芯片的 ASML 新款光刻机预计在 2025 年首次投入使用，对芯片厂商而言，“2nm 工艺战”已经打响
ASML 冲刺 0.55 NA EUV 光刻机对于芯片厂商而言，要想发展先进制程，光刻机是关键设备
很好，正常使用中，这个品牌的技术过硬，用着放心，推荐大家购买。一直信赖先锋这个牌子，但现在的刻录机比以前的噪音要大，而且数据线也没有...
ASML 表示，第一台 0.55 NA EUV 光刻机原型试预计 2023 年交付，2025 年后量产，第一台预计交付英特尔
芯片厂商冲击 2nm 工艺根据 Gartner 分析师 Alan Priestley 的预测，0.55 NA EUV 光刻机单价将翻番到 3 亿美元（约合 20 亿元人民币）
芯片厂商打响“2nm 工艺战”
而从工艺技术和制造成本综合因素考量，EUV 光刻机（极紫外光刻）被普遍认为是 7nm 及以下工艺节点的最佳选择
目前，在全球范围内仅有荷兰的 ASML 公司能供应 EUV 光刻机
据介绍，ASML 的 EUV 光刻技术使用 13.5 nm 的波长（几乎是 X 射线范围），在微芯片上形成精细的线条
为什么要冲刺高 NA EUV 光刻机？光刻系统所能达到的分辨率是光刻收缩的主要驱动因素之一，它主要由所用光的波长和光学系统的数值孔径决定
更短的波长可以打印出更小的特征；更大的数值孔径可以更紧密地聚焦光线，也能够带来更好的分辨率
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另据韩媒 Business Korea 报道，三星电子正计划通过在未来三年内打造 2 纳米 GAA(Gate-all-around)工艺来追赶台积电
随着 0.55 NA EUV 光刻机量产提上日程，芯片厂商的“2nm 工艺战”也将彻底打响