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光刻机_雕刻机_曝光系统

国产光刻机的艰难往事光刻机最理想光源

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”2逆境改革开放之后,全国兴起了引进外国设备的热潮,半导体产业开始受到猛烈的外部冲击

尽管742厂的技术引进大获成功,但从整体来看,芯片产业出现了重复引进和过于分散的问题

在扩大对外开放的背景下,“造不如买”的思潮迅速蔓延全国

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比如清华大学的徐端颐团队,成立之初多达数百人,有技术超群的钳工、搞精密机械加工的师傅,还有搞计算机控制的技术工人,但是没有一个人懂光刻机,徐端颐团队研制新设备,全部图纸都要自己设计,全部零部件都是自己加工制造,一切从零开始,边干边学

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虽然基础薄弱、一切从零开始,但是在无数先辈的日夜努力之下,中国光刻机还是赢得了一个比较好的起点

真正尴尬的是,虽然有了国产光刻机,但是科研成果不代表批量化生产能力,产业化一直停滞不前

1977年7月,人民大会堂举行的科教工作者座谈会上,半导体灵魂人物王守武直言:“全国共有600多家半导体生产工厂,其一年生产的集成电路总量,只等于日本一家大型工厂月产量的十分之一

为了摆脱困境,1956年国家成立科学规划小组,集中600多位科学家,开始编制《十二年科学技术发展规划》

这是新中国成立以来第一科技规划,提出了57项重大科学技术任务、616个中心问题,规划初步完成时,资料多达600万字

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现在这年代还在用光驱的不多了吧,连机箱也没几个说特意有留位置的,要么就是复古机箱,非常难看……至于光驱还是信赖老牌子,用先锋我是很放心的!

在政策的大力支持下,芯片行业进入了海归创业和民企崛起时代,国产光刻机事业再次艰难起步

此时,国际上光刻光源已经被困在193nm长达20年,最终台积电在2002年提出了浸入式光刻方案,阿斯麦也凭此击败尼康,成为新一代光刻机霸主

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