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光刻机_雕刻机_曝光系统

三台光刻机进入华虹无锡基地,美国人为什么要限制我们购买?

读盘速度:刚开使用,读盘写盘都还是很不错的,希望一直质量不错,耐用一些就很棒了

这比挖比特币还要费电!我们自己的光刻机到了什么水平呢?ASML的EUV光刻机已能用13.5nm极紫外制程7nm、甚至3nm的芯片

我国主要还是采用深紫外光的193nm制程工艺能做26nm的芯片

据报道,上海微电子公司已经攻克了14nm光刻机,尽快还达不到国际最先进的光刻机水平,但是在手机汽车等民用领域,以及武器装备用的芯片上,我们已经可以自给自足

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道理是这么说的,可做起来太困难

美国的这家生产EUV光刻机光源的公司是世界上唯一的一家公司,也就是说除了他家,别人都无法生产

没有光源,光刻机就无法工作

这就是垄断

其次是反射镜

三台光刻机进入华虹无锡基地,美国人为什么要限制我们购买?

很好,刻碟顺畅,外观经典,包装标准安装简单,配件齐全,质量可靠,经久耐用。东西很不错,试用了后觉得效果很好,快递速度也很快,收到后整体满意。

比起DUV光刻机,它把193nm的短波紫外线替换成了13.5nm的极紫外线,能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸

而EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer,这个13.5nm的极紫外线是从193nm的短波紫外线多次反射之后得到的

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美国人为什么要限制我们购买?

ASML公司研发出了双工作台,在一个工作台完成扫描曝光的同时,另一个工作台也可以同时进行对准、调焦、下片等操作

最后就是耗电问题

EUV光刻机耗电非常高,它需要把整个工作环境都抽成真空以避免灰尘

EUV光刻机运行每小时耗电至少150度

就像原子弹爆炸的原理,早就不是什么国家机密,但真正制造出一枚核弹,却不是那么容易的事情

制造光刻机有哪些困难?首先是光源问题

光刻机是用紫外光刻画在晶圆上,这就对光源有了极高的要求

目前,世界上最先进的光刻机已经做到3纳米

读盘非常流畅,用起来非常舒适,非常好,性能实用,外观漂亮,很好的宝贝,推荐大家来买。适用于各种领域,总结起来一个字:好!!!不好的话我是不会买的,只要我买的东西都是挑好的,只买好的有用的,非常推荐!!!

三台光刻机进入华虹无锡基地

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