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这比挖比特币还要费电!我们自己的光刻机做到了什么水平呢?ASML的EUV光刻机已能用13.5nm极紫外光制程7nm、甚至3nm的芯片
我国主要还是采用深紫外光的193nm制程工艺,能做26nm的芯片
据报道,上海微电子公司已经攻克了14nm光刻机,尽快还达不到国际最先进的光刻机水平,但是在手机、汽车等民用领域,以及武器装备用的芯片上,我们已经可以自给自足
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道理是这么说的,可做起来太困难了
美国的这家生产EUV光刻机光源的公司是世界上唯一的一家公司,也就是说除了他家,别人都无法生产
没有光源,光刻机就无法工作
这就是垄断
其次是反射镜
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比起DUV光刻机,它把193nm的短波紫外线替换成了13.5nm的极紫外线,能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸
而EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer,这个13.5nm的极紫外线是从193nm的短波紫外线多次反射之后得到的
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美国人为什么要限制我们购买?
ASML公司研发出了双工作台,在一个工作台完成扫描曝光的同时,另一个工作台也可以同时进行对准、调焦、下片等操作
最后就是耗电问题
EUV光刻机耗电非常高,它需要把整个工作环境都抽成真空以避免灰尘
就像原子弹爆炸的原理,早就不是什么国家机密,但真正制造出一枚核弹,却不是那么容易的事情
制造光刻机有哪些困难?首先是光源问题
目前,世界上最先进的光刻机已经做到3纳米
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