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光刻机_雕刻机_曝光系统

还是媲美EUV的那种,新原理光刻机

众所周知,目前芯片制造流程中,光刻机是必不可少的设备,且从成本来看,光刻机占所有半导体设备成本的20-25%

但是大家也清楚,当前在光刻机领域,ASML是一家独大,特别是EUV光刻机,只有ASML能够生产,而在尖端一点的DUV光刻上面,也是ASML占优,佳能尼康等品牌,主要占的是低档市场

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所以其它厂商有一个非常大的机会,那就是搞定EUV光刻机,然后卖给中国,那会是巨大的市场

不过,要掌握EUV光刻机技术,可不容易,因为ASML造EUV光刻机,是整合了全球的技术,美国的光源德国镜片英国的真空腔,可以说是举全球之力完成的

上次买的华硕,这次买先锋的,同样品质和价格喜人,读盘能力强,声音小,读取快速,刻录时间和刻盘质量稳定,一次买了2个,单位上用的,同事用了都说可以,六一八期间促销还有卷送,总共买东西便宜了一二百,非常满意的购物体验。

读盘非常流畅,用起来非常舒适,非常好,性能实用,外观漂亮,很好的宝贝,推荐大家来买。适用于各种领域,总结起来一个字:好!!!不好的话我是不会买的,只要我买的东西都是挑好的,只买好的有用的,非常推荐!!!

虽然尼康、佳能、上海微电子都有光刻机,但要搞定EUV光刻机,估计是没太多办法的,ASML攒局的能力太强了,已经将利益链捆绑在一起了

为此,这要怎么办呢?当然就要换道超车了,比如佳能,知道在EUV上是不可能打败ASML的,所以一直押注纳米压印光刻(NIL)技术

还是媲美EUV的那种

超级好的光速啊,十年前买的一个一直都在用,用不坏的先锋,还会再买这个牌子的。。。。

读盘速度:速度快。 读盘声音:声音小。刻录声音也不大。 稳定性能:性能稳定。 产品包装:包装很好。

还是媲美EUV的那种,新原理光刻机

佳能近日表示,接下来会研发新一代的NIL光刻机,新一代的NIL光刻机,有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺

当然现在的问题是,能够媲美EUV光刻机的NIL光刻机,究竟会在什么时候面市,如果佳能能够实现这个技术,全球的半导体格局都有可能生变

如上图所示,这是机构统计的2021年前道光刻机出货量情况,大家可以看到高档的EUV光刻机,ASML完全垄断,低档尼康、佳能有一定的份额

而中国大量需要光刻机,特别是EUV光刻机,这就造成了市场与需求的不匹配,但ASML也没办法啊

原理光刻机

一直用先锋刻录机,09年卖的刻录机现在读片困难了,只能换新了。新机很好,价格便宜,满意,性能很好,不但能够读光盘还能刻录光盘,非常的实用,孩子学校发的光盘可以使用了

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