2022-2032年的极紫外EUV光刻机代差在2022年6月底披露的资料中，IMEC公布了更新的未来十年的半导体工艺节点的规划，其中明确了两代EUV光刻技术代差：1，2023-2026年，将以NA0.33 EUV光刻机的多重曝光方式量产2纳米和A14（14Å）节点；2，2026-2032年，将以高NA0.55的EUV光刻机量产A10、A7、A5节点
读盘速度：快， 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻 稳定性能：目前使用稳定性好 产品包装：包装精致
这款光源对应上图的位置是1994年
当然，我们不能把1994年当作技术差距的时间点
例如不排除同步开发的193nm的ArFDUV光源也已经进入光刻机厂商的测试环节；亦即达到193nm浸没式光刻水平，那么对应上图的位置是2005年左右
第一台高NA光刻机EXE:5000将在IMEC和ASML的联合实验室安装1990-2020年的光刻机代差从1990-2030年的半导体发展路径图上，我们可以看到大致上，2005-2019年经历了两个主要代差：1，浸液式DUV光刻（2007-2012年）；2，浸液式多重曝光DUV光刻（2012-2019年）；3，NA0.33EUV光刻机（2011-2020年）
极紫外EUV光刻机代差详解:2010-2032年
给别人组装新机安装的刻录机，这次买配件全是在京东六一八做活动时买的价格很实惠。当然先锋刻录机的质量也是杠杠的，使用效果让人很满意，它是我给别人组装新机的不二之选。
大品牌都是值得信赖的，刻录很稳定，读盘基本没有声音。。真的是即插即用，小巧好看，驱动非常快速，播放顺顺利利的，刻录也非常给力，我第一张就刻录就成功了，太顺利了吧！好东西！
编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV
而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力
明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式
以前基本没有认真评价过不知道浪费了多少积 分，这个福利真好真好，妥妥每次都写100多字，这 是第N次在网上买东西，棒棒棒！很厉害，好便 宜，而且质量很不错，物美价廉买得放心，用得开 心，现在购物已经是每天的必做的事了，买买买根 本停不下来，东西品种多，分类清晰，超级划算而 且方便，主要是还实惠，包装设计很好，并且没有 损坏，希望卖家可以一直保持】，这是一个好评模 版，因为如果每次要长篇写好评也是会耽误好多时 间和精力的，希望能帮到要写详细评论的亲们。
中国哪家企业有光刻机
很显然，这两次迭代，将使得摩尔定律被延长至2032年
在中文舆论里，前者便是铺天盖地的所谓“28nm”光刻机；后者便是所谓“7nm”光刻机
半导体产业40年的发展路径经严格考证的国产光刻机光源进度而在我2021年10月份的考证里，国产DUV光源的测试计划是248nm的KrF DUV激光器，因此实际上这一款激光器并没有进入批量生产的阶段
终于拥有自己的刻录光驱了，比我上一个只能读取的上了一个台阶，很满意！现在很多机箱都没有光驱位了，为了方便起见，配了先锋DVD刻录机，质量很好。