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读盘速度：非常快 读盘声音：有些大 稳定性能：不确定 轻薄程度：非常轻 外形外观：完美 产品包装：正品包装

物流超快哒，谢谢快递小哥。这个光驱主要是偶尔按照驱动或者系统用的，运行声音略大，但是读取速度很快。按照我的使用定位来说，性较比最好的一款

ASML 表示，利润率受到了通胀成本上升的影响，此外，一些系统在荷兰进行全面测试之前就向客户发货，导致了延迟确认收入，从而影响了收益

不过，虽然国产光刻机开始不断进步，但技术差距和国外依旧有较大差距，这是客观现实

现阶段，我国无法制造高端光刻机，但可以制造一些低、中端的光刻机

2020 年 6 月，上海微电子设备有限公司透露将在 2021—2022 年交付首台国产 28 纳米工艺浸没式光刻机

刻蚀机 光刻机

非常好用的一款刻录机，读碟快，而且静音。马达声音很柔和，没有激烈的读盘声音。刻盘稳定。质量不错

至于1.8nm以下，用什么光刻机？反正ASML现在还没规划，因为1.8nm后，技术又会怎么样变化，谁也不清楚

但近日，美国一家公司Zyvex，利用一种完全不同于EUV光刻机的技术，制造出了768皮米，也就是0.7nm的芯片

先锋6X蓝光刻录机外观很美观，做工精细超薄的外表很喜欢，Type-c接口比较通用的接口， 吸入式/支持BD读写/兼容Windows/MAC双系统，支持千年光盘/BDR-XS07CS，正在使用中

如今在全球市场上，能生产出先进EUV光刻机的只有ASML公司一家；凭借着垄断的优势，也让ASML公司在光刻机领域赚的是盆满钵满；而ASML公司也曾公开表示：就算是公开EUV光刻机的图纸，中国也造不出来！这也说明光刻机是非常难造的；据悉一台EUV光刻机拥有超10万个零部件，这些零部件精选全球超5000家供应商；而我们想要凭借一己之力去造EUV光刻机也显然是不太现实的！值得一提的是，不管怎么说EUV光刻机是人造的，而不是神造的，只要我们肯加大自主研发的力度，那么就没有什么是不可能的；为了解决卡脖子的难题，华为等众多的国产科技企业都选择了埋头苦干，在国内科技企业的不不断努力下爱，现在国产光刻机已经实现14nm技术的突破，未来也是十分可期的

正合适，价格也不贵，现在用刻录机的少了，市面上的刻录机良莠不齐，水货很多，质量也没有保证，考虑很久，还是不从实体店买了，这款目前使用很好，没出现刻录废碟，点赞

在今年的三季报会议上，ASML还宣布，其第三季度的预订量达到创纪录的约 89亿欧元，其中38亿欧元是EUV系统，包括了High NA EUV系统

对于High-NA EUV光刻系统的价格，温宁克也首次正面回应称，每台设备的价格将在3亿至3.5亿欧元之间

当前有能力制造出先进光刻机的企业，有荷兰ASML公司和日本的尼康公司等，其中荷兰ASML公司，是唯一一个有能力制造7纳米工艺制程的企业

如果加上三星和台积电的技术支持，那么就可以制造出更加先进的5纳米级别芯片

同时，荷兰ASML公司制造的光刻机，是世界上最畅销的光刻机，一台售价1.55亿美元的euv光刻机每年就能卖出200多台，是世界光刻机总销售量的80%

非常小巧的产品，出乎意料特别的轻，有一种不能置信的感觉。具体速度还是可以的，质量自然刚刚的，过去一直使用这个品牌，今次也不例外。声音很安静，基本没有振动，当然我有适合的防震设备。很适合外带的小家伙，移动方便。

非常好用的一款刻录机，读碟快，而且静音。马达声音很柔和，没有激烈的读盘声音。刻盘稳定。质量不错

台积电和美国芯片企业都在舍弃ASML的EUV光刻机，ASML终于开始重新将目光放在中国市场，近期表示将大举扩张光刻机的产能，EUV光刻机产能将提升到90台，DUV光刻机产能增加至600台，然而它迟迟未能对中国自由出货，而中国芯片已经等不及了

刻蚀机和光刻机的区别知乎

中国芯片制造企业以现有的DUV光刻机将芯片制造工艺推进至7nm，国内的芯片封装企业通富微电等又研发了5nm芯粒封装技术，如此国产芯片可望提供接近5nm工艺性能的芯片，对ASML的EUV光刻机需求迫切性下降

读盘速度：很快，关键是稳，8倍速，蓝光的 读盘声音：声音很轻，可以说用细微来形容 稳定性能：8倍速保证光盘刻录一张保一张 轻薄程度：很轻薄，很便携，非常好 外形外观：小巧，低奢而大气 产品包装：产品的包装很好，两侧的泡沫直接让刻录机在包装盒里悬空，极大地避免了震动！

众所周知，在芯片制造中，光刻机是必不可少的设备

而7nm及以下的芯片芯片制造，EUV光刻机是必不可少的设备，而EUV光刻机仅ASML一家能够生产，所以一直以来ASML都是保持着自己的节奏，不多生产

大品牌都是值得信赖的，刻录很稳定，读盘基本没有声音。。真的是即插即用，小巧好看，驱动非常快速，播放顺顺利利的，刻录也非常给力，我第一张就刻录就成功了，太顺利了吧！好东西！

使用了几次，才来评价，全五星全五分好评！质量不错，读盘速度挺快，借给别人刻盘过。相信先锋品牌的质量，相信京东自营货物品质。

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构

光刻机与等离子刻蚀机

为此，台积电也在努力想办法，比如自己去买电厂，解决供电问题，还直接与一些电站签订采购合同，确保电力供应，甚至还不得不将产能转移至美国等地，缓解供电危机，但一年190多亿度电，需要100多亿元的电费，让台积电也是很头痛

更重要的是，EUV光源能量转换率为0.02%，另外的99.98%电能会变成热量散发出去，又需要大量的设备来降温散热，这又要耗电

台积电的数据显示，2021年能源消耗量为191.9亿度，约占台湾的7.2%