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不过据称,NXE:3600D型号的EUV光刻机,支持的工艺可能仅到3nm,如果要制造2nm的芯片,光刻精度还要提升,需要新一代的High-NA极紫外光刻机才行
而光刻精度怎么提升,就是数值孔径的提升了, 前几代光刻机,比如3400B/C、3600D的数值孔径都是0.33NA的,解析度(精度)为13nm,单次构图间距为32nm到30nm
给别人组装新机安装的刻录机,这次买配件全是在京东六一八做活动时买的价格很实惠。当然先锋刻录机的质量也是杠杠的,使用效果让人很满意,它是我给别人组装新机的不二之选。