滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

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荷兰无视白宫威胁

在上个月，美国政府颁布了一项新的法案，该法案将对中国的芯片进口，进行更严格的限制

而且，美国不仅仅是自己限制中国，他们还要求荷兰，日本以及韩国一道遵守他们的新法案，继续对中国的半导体行业实施管制

作为全球光刻机龙头企业的阿斯麦，当然难逃美国人的视线，这些天来，美国政府不止一次要求他们在这一问题上，亮明自身的态度

ASML还因此发出警告称：“如果不能出货，会导致全球供应链中断

”道理大家都明白，只是ASML的警告美国能不能听得进去就不得而知了

实际来看，美国正处于“装睡”的状态，对外界的劝诫声音充耳不闻

还进一步想要让荷兰与自己站在一起，把DUV光刻机也加入到限制出货的范畴中

美国想把其他人也拉下水，为了达到自己的目的，并没有考虑其他人的想法

光刻机作为荷兰的支柱产品，保障自由出货是非常关键的

所以对于美国的要求，荷兰作何反应呢？根据荷兰大臣公开表态：“不会照抄美国的做法，我们有自己的判断

另外，光刻机的制造对生产环境要求相当高

正是因为如此，目前没有一个国家可以独立完成光刻机的制造

以光刻机巨头荷兰阿斯麦公司制造的EUV极紫光刻机为例，其就继承了美国、日本和德国等多个国家的技术

目前光刻机几乎被阿斯麦公司一家垄断，高端光刻机领域，阿斯麦公司的市场占有率超过90%

最先进的光刻机是几纳米

2014年，两人从阿斯麦美国子公司Brion辞职后创立XTAL，专注于计算光刻技术的发展

据悉，Brion公司是光刻计算概念的提出者，后来被阿斯麦全资收购

编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

明确这些技术代差，有助于讨论和思考我国的光刻机发展方式和组织模式

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然而在EUV光刻机面世之前，一直都是使用的DUV光刻机，使用的是短波紫外线，突破到极紫外线，一共花费了20年的时间才完成，可见对于光源的选择使用，其的难度是非常大的，没有捷径可走

2、反射镜反射镜听起来好像是一个比较常见的工具，然而在EUV光刻机上的反射镜可是一个关键技术

给别人组装新机安装的刻录机，这次买配件全是在京东六一八做活动时买的价格很实惠。当然先锋刻录机的质量也是杠杠的，使用效果让人很满意，它是我给别人组装新机的不二之选。

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11月15日下午，趁G20峰会的契机，中荷元首在巴厘岛举行会晤

中方明确表示反对“脱钩“，反对将经贸问题政治化，各方携手维护全球产业链稳定

对此，荷兰首相吕特表示赞同

在芯片问题上寻求与中国的激烈对抗，无异于对中国发起自杀式挑衅，临死之前拉上几个垫背的

韩国人知道这个道理，荷兰人也自然明白

日前，荷兰外贸与发展合作大臣施赖纳马赫尔在接受本国媒体采访时表示，在半导体出口问题上，荷兰“会做出自己的判断“”不会全盘照搬美国（对华禁令）措施“

ASML真的慌了

两三年后，林本坚和ASML研发的浸润式光刻机被生产出来，显示它的技术优势，浸润式光刻机随即成为市场主流，至2008年ASML超越了尼康和佳能成为全球最大的光刻机企业，此后ASML在光刻机市场的地位不断得到巩固

先锋的刻录机是老牌子，到了之后用了一下，非常好。顺便吐槽一下，现在的笔记本好多都不带光驱了，配一个外置光驱很有必要。

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要知道，在美限制新规出炉之后，率先拉拢的就是荷兰和日半导体

首先是因为在尖端技术领域的突破上，美半导体和日半导体有先联合的基础

其次是，在光刻机市场上ASML是一个重点，加之日本也有光刻巨头，并且他们均表示了要加码中国大陆市场上的出货

编者按：公众比较熟悉的光刻机代差是基于193纳米光刻光源的干式DUV和浸液式DUV

而浸液式DUV光刻，可以通过多次曝光获得7纳米节点的能力

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比利时IMEC实验室公布2纳米以下制程量产时间节点首台高NA光刻机将入驻IMEC-ASML联合实验室IMEC和ASML的联合实验室将在2023年安装第一台高NA EUV光刻机系统；这是近十年光刻机发展历史上的一个里程碑的进展

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