滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

宝贝包装严实，物流很快，运转起来也比较流畅， 复制光盘上的文件很好，总体感觉不错，有需要的 可以下手啦！

很好用，不愧是老牌子，声音小，稳定，读碟和刻录都不挑碟，真值得购买！京东客服很给力，保修期内维修时间超过15天都没反应，直接联系给换新了！感谢感谢！后续有需要还会回购的

办公用品，很好的，服务好，速度快，大品牌，有质量保证，开票及时，便宜，完美！3月份生产的，新鲜！

更何况，半导体行业已经走上了全球化的道路，荷兰虽然有最好的光刻机，但也有九成以上的原材料，需要从中国进口

而更重要的是，芯片的前道工序非常重要，并且是几百种设备相互配合，而这些生产设备以国外的产品为主，所以国外的光刻机能够相互配合兼容，这是大家多年来合作的结果

而国产光刻机的也许能用，精度也达到了，但晶圆厂们一般情况下可不会冒险，在有国外的、能兼容匹配的国外设备可买的情况下，就不会买国产的，一旦出了问题，就损失惨重

物流很快，上午下单下午就到了。东西很轻，主要用来读DVD和CD，目前没有什么问题，声音不大，刻录没用过。基本满足需求。

而DUV光刻机的光源，我们很早就已经实现了突破，国产替代完全没有问题

所以ASML才说，DUV光刻机已经是一项成熟的技术，言下之意，如果我不卖，那我很快就会被替代

事实上，我们国产DUV光刻机的高端部分，近年来，各个主要零部件，已经纷纷进入中试阶段，距离量产已经是一步之遥

不过根据最新的消息显示，老美方面计划将DUV光刻机也纳入范围当中

此前在EUV光刻机上，ASML的态度比较缓和，但这次直接表示了拒绝，可以说ASML不再遮掩，摊牌了

你可以说推动工艺发展最大的功臣是智能手机芯片，但其他应用对高密度的需求同样不可小觑，因为这对它们来说也就意味着更高的存储容量和带宽、更高的算力

Intel、台积电已下单荷兰半导体设备厂商ASML（阿斯麦）正在全力研制划时代的新光刻机high-NA EUV设备

荷兰为什么不自己用光刻机

ASML正在准备向客户交付首台High-NA EUV光刻机，大概会在明年某个时间点完成

据悉，High-NA EUV光刻机会比现有的EUV光刻机更为耗电，从1.5兆瓦增加到2兆瓦

自己几分钟换好了，刻了几个文件试试，很快，也没什么噪音，很不错，但愿能多用一阵子，先好评

荷兰光刻机首先，荷兰和中国互为重要的贸易伙伴，为了维护两国良好的经贸关系，荷兰在对华政策上一向小心谨慎

在欧洲响应美国号召，试图对中国进行贸易孤立后，荷兰首相吕特就曾公开表示反对，还呼吁欧盟应该制定独立的对华政策，不要被美国牵着鼻子走

在东京买原装正品未拆封，好东西非常方便就开始使用了，外观也漂亮，轻薄设计、金属外壳黑色烤漆，看着就喜欢。 读盘速度：正常 读盘声音：轻 稳定性能：刚刚才用，感觉蛮稳定的 轻薄程度：轻薄设计，感觉舒服 外形外观：有金属感，漂亮 产品包装：完整、原装正品未拆封

所以这就是美国为什么能让荷兰对华禁售DUV、EUV光刻机的主要原因——ASML的EUV光刻机的实际控制方是美国而非荷兰

因此，ASML也被行业称为“半个美国公司”

实际上，美国要求荷兰ASML禁止出售光刻机给中国芯片制造企业，始于前任总统特朗普时期

读盘速度：速度还是相当快的，大概2秒左右。 读盘声音：声音很小，主要是用来放音乐?的。 稳定性能：性能指标还可以，支持各种格式的光盘?兼容性比较好。 轻薄程度：大小刚刚好，能放在光驱位，要螺丝固定。 外形外观：外观很别致，很简洁。 产品包装：包装盒完好，还送了数据线。

而ASML采用的则是一种激光干涉仪，精度非常高，有着位移测量的能力，可以实现出纳米级的同步运动，非常精密，这样的技术就是美国也没有办法做到

可见光刻机的建造难度极大，而其的建造，也代表着现如今最完整的高尖端工业体系，代表的是一个国家真正的科技力量，和真正的工业实力，因此是不容小觑的

为什么这样说呢？在时间的推移下，拥有核武器，能够制造出核武器的国家已经达到9个之多，五常和巴基斯坦、印度、以色列以及朝鲜这9个，而全球的核弹数量相加，更是一个庞大的数字

毕竟光刻机本就不是一个国家能独立建造的东西，是依靠着全球产业链的支持，进行供应而成

相比目前的0.33数值孔径的EUV光刻机，High-NA EUV光刻机将数值孔径提升到0.55，可以进一步提升分辨率（根据瑞利公式，NA越大，分辨率越高），从0.33 NA EUV的13nm分辨率提升到0.55 NA EUV的低至8nm分辨率（通过多重曝光可支持2nm及以下制程工艺芯片的制造）

先锋的刻录机是老牌子，到了之后用了一下，非常好。顺便吐槽一下，现在的笔记本好多都不带光驱了，配一个外置光驱很有必要。

今年第一季度收到了多个EXE:5200系统（量产版High-NA EUV光刻系统）的订单，今年4月还收到了额外的EXE:5200 订单

中国的光刻机技术成果目前中国自主研研制的90nm光刻机已经商用，并且已经成功攻克DUV浸润式光刻机的主要技术；上海微电子研制的28nmDUV光刻机，就可以用来进行14nm芯片的生产

别看这14nm好像还差得远，要知道，平时我们虽然听什么14nm、7nm甚至是3nm听多了，对芯片的技术失去了概念，但其实只要跨过 28nm制程这道难以逾越的墙壁，那就算是排在世界尖端的水平了

在早些年的时候，人们就已经意识到了光刻机作为未来科技领域发展的重头戏，很多资本家已经把视线放在光刻机上了，他们不惜耗费大量的资金，主要目的也是为了在光刻机领域里面能够分一杯羹

反射镜的作用是把模板上的电路图等比例缩小，在硅片上以电路图的形式呈现出来，这是制造芯片的关键元件

ASML公司EUV光刻机的反射镜来自德国的蔡司

EUV多层膜反射镜作为光学系统的重要元件，成为了EUV光源的一项关键技术，需实现EUV波段的高反射率

非常好，但刻录只有18速？，而且噪音很大，不过其他很好。不错的用来刻录CD机用的。很安静。没有噪音。稳定可靠。

很好，正常使用中，这个品牌的技术过硬，用着放心，推荐大家购买。一直信赖先锋这个牌子，但现在的刻录机比以前的噪音要大，而且数据线也没有...