滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

读盘速度：快， 外形外观：漂亮 读盘声音：很轻 稳定性能：目前使用稳定性好 产品包装：包装精致

稳定性能：非常稳定 读盘速度：速度快 读盘声音：无噪音 外形外观：精致美观 轻薄程度：轻薄

外媒：中国半导体“大势已定”作为我国半导体芯片发展的最前沿阵地，上海“东方芯港”也投入了众多的人力物力资源，在经过众多企业的不断努力以后，我们也终于在光刻机、刻蚀机、光刻胶材料等等领域实现了突破；虽然说我们现在还无法与台积电和三星的5nm工艺制程技术相提并论，对此外媒也纷纷表示：中国半导体的发展也早已经“大势已定”！突破90nm光刻机，可量产14nm芯片如今，上海公布了在集成电路领域取得的一些成果，在90nm光刻机领域已经进行了突破，并能生产14nm芯片；而且在5nm先进的蚀刻机领域也已经有所突破，从目前的发展情况来看，不得不说上海“东方芯港”的发展速度还是比较快的；其中上海微电子已经成功的实现了90nm光刻机的突破，而5nm刻蚀机则由中微公司领头破冰，其生产的5nm蚀刻机甚至已经被台积电所采用；而中芯国际经过这么年时间的发展，其N+1和N+2工艺技术应该也早已经能实现14nm芯片的量产！目前来看，现在中国半导体已经“大势已定”，在这些头部芯片企业的不断努力下，在芯片设计、制造、封装三个环节中，我们已经进行了技术突破，除了光刻机和蚀刻机以外，在芯片设计的EDA软件领域，国内的华大九天也已经宣布可以在28nm提供模拟全流程EDA工具；这也让我们不用担心再被EDA工业软件给卡脖子；而在芯片架构领域，国内的阿里、华为海思都已经成功的打造了开源的开源架构RISC-V，另外，国产龙芯中科也自研了LoongArch指令集架构

稳定性能：很好 读盘速度：很好 外形外观：很好 轻薄程度：很好 读盘声音：很好 产品包装：很好

光刻机深紫外晶体

送货非常快，上次买了刻录光盘，这次配套购买刻录机，先锋经典老品牌，支持DVD/CD读写，是数据备份，影音，学习的好帮手。

ASML恐始料未及

这种成本所暴露的问题，在光刻机上也开始显露

ASML方面在今年就已经表示，在高NA EUV光刻机的下一代产品上，光刻技术似乎已经走到了尽头

倒不是说技术上做不到，而是成本上难以承受，光刻机的NA可以继续提升，但是成本将高出天际

先锋的刻录机确实很稳定，效果也很好，已经用了好几个了，又买了一个感觉，确实不错。小巧玲珑，播放翻录效果都好，很安静，刻录还没用暂不需要，是一款超赞的小光驱！拍照为证。

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

早前美国一家精密制造企业Zyvex Labs就宣布研发成功光刻机系统，它舍弃了ASML等光刻机企业所采用的紫外光，而采用了电子束（EBA）刻印电路，精度远超采用极紫外线的EUV光刻机，工艺制程可以达到0.768nm，这对于ASML更是重大打击

第二次买了，上次5个，这次又为单位上买了5个，上次买的评价比较好，读盘能力强，刻盘很稳定，国产品牌中很不错的产品，现在用光驱的时候越来越少，外置光驱价格也降了不少，有时要用的时候又找不到，常备几个以备不时之需。

日本研发5nm取得重大进展

由此可见，美国的霸权主义是让美国强盛的因素之一

但凡是技术发展起来威胁到美国地位的国家，美方就会动用政治力量去打压它，不管这个国家跟美国是不是有仇

现在日本的半导体发展可以跟三星抗衡，仅次于美国

来自日本的东京电子，在半导体技术领域四面开花，属于六边形选手了

中国自主研发的紫外超分辨光刻机

第二个因素就是中国的光刻机业务发展比较缓慢，根据之前梁孟松透露出来的消息来看，中芯国际已经掌握了7nm节点的工艺技术，但是由于没有办法拿到EUV光刻机，所以迟迟无法进行流片测试

中国自主研发的紫外超分辨光刻机

而中国不可能得到欧美的帮助，也不可能获取到全球最顶级的设备零件，事实上和光刻机有关的零件，美国全部向中国断供

那中国真的就造不出来EUV光刻机吗？并不是，只不过速度要更慢，因为中国要造EUV光刻机，就连一颗螺丝钉都要自己造

正如照相机拍摄照片是将影像印在底片上，而光刻机是将电路图和其他电子元件印在薄片上

我们人类的头发丝直径在50μm—70μm左右，而利用光刻手段能刻画出头发丝直径1/5000的线条

紫外深度光刻机

11月29日，上海鼎泰匠芯科技迎来首台ASML光刻机，交付仪式已经在上海临港新片区举行，这是在美国采取措施之后，ASML首次向中国企业供应光刻机，凸显出ASML开始硬扛美国

ASML反水，在于此前它完全顺从美国，然而美国芯片企业却在绕开它的EUV光刻机

先是美国芯片企业美光已研发绕开EUV光刻机的1β工艺，这项工艺比采用EUV光刻机降低了六成的成本，存储密度、功耗等指标也更优秀

更让ASML忧心的是全球芯片行业的变化，全球芯片行业已从过去两年的火热迅速陷入冰点，最大的EUV光刻机采购客户台积电已关闭部分EUV光刻机，甚至还将部分EUV光刻机从中国台湾转运至美国的5nm工厂

自己几分钟换好了，刻了几个文件试试，很快，也没什么噪音，很不错，但愿能多用一阵子，先好评

所以对于ASML来说，让DUV光刻机也去适配修改后的芯片规则，没有任何意义，只会是让ASML丢失大量的市场和营收

要知道，目前我们不仅是全球最大的芯片市场，也是全球最大的半导体设备市场，而ASML在老美的营收已经连续三年下滑

刻录机非常好，读写静音极佳，刻盘质量极佳，是我用过的最好刻录机，质量也非常过硬，下次一定在来买。

用起来方便，装好也完美，很契合原机。比较轻薄啊，很轻，读盘性能可以，等着试试刻录

再次是财大气粗的台积电也一反常态不在抢购EUV光刻机，台积电当下的先进工艺制程产能过剩，而客户由于全球芯片行业衰退而转向选择成熟工艺，为了增强竞争优势，台积电建立“3D Fabric”联盟，以3D封装技术提高成熟工艺的性能降低成本

全球抛弃EUV光刻机

光刻机深紫外晶体

光驱很好，声音不大，读盘速度快，现在用的不多了，买个备用，加上转接线，方便快捷，好用，好用，有需要再来买！牌子大，质量稳定，估计用很多年没问题！

此前美国提出的每项举措，ASML都迅速紧紧跟随，美国要求ASML不得对中国出售EUV光刻机，ASML在收取了中芯国际1.2亿美元货款后延迟了4年都未交付，今年美国又要求ASML不得对中国出售14nm以下的DUV光刻机，ASML照单全收

?直接从主机前面的口插进去的，插上线，开机放碟，立马就可以用了。很快。目前没什么问题。

这种改变，让芯片产业对EUV光刻机的需求下降，而ASML要保证自己的市场地位和盈利水平，就必须要保证DUV光刻机的出货量，所以我们就看到，就在前段时间，ASML方面不顾老美的要求，坚持向中企供货，并直言即便DUV光刻机使用了少量的老美技术，但是ASML依然可以继续向中企供货，言外之意，必要时，ASML可以选择用其他技术替代老美的技术

读盘速度：先锋存储名不虚传啊，原来用的也是先锋的，用了有10年，终于退休了 读盘声音：声音很小，几乎听不到 稳定性能：稳定性超强，刻录CD非常快，音质也超棒 轻薄程度：外置光驱吗，都一样薄厚，没有太厚的 外形外观：外观就是比原来的降了档次，原来的机器都是金属外壳，现在的是工程PVC的，更轻一些 产品包装：产品包装结实，原封装，没动过，全新