基础实力差,加上外国这样的“绊脚石”,让中国不得不主张自行研发
1977年,历经10年之久的中国经过自己的不懈努力,上海光学机械厂成功制造出JKG-3型接触式半自动光刻机
这也代表着此时的中国半导体产业正在紧跟外国的科技发展步伐,然而真正距离美国制造出的光刻机已经相差近二十年,并且就在同年,美国再次推出了真正的自动化光刻机
其次,就算拥有了精密的零件制造业基础,在光学系统、组装技术等知识、技术等方面也是如今光刻机技术突破的一大难题,因为这一系列的技术知识关乎着一个光刻机能否正常运行以及生产和产出