也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片,可能EUV光刻机就无法胜任了,要推出全新一代技术,至于是什么技术,目前业界还没有定论
目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机,可以生产0.768nm的芯片,但无法大规模量产
而俄罗斯在研究X射线光刻机,没有光掩模板,直接光刻,据称可以用于1nm芯片,但没有样品出来
做工精致,读片性能很好,轻薄小巧携带方便,五星!还可以,价格很便宜了,电脑还是要装一个刻录机的,万一用了还是很方便的
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