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佳能近日表示，接下来会研发新一代的NIL光刻机，新一代的NIL光刻机，有可能应用于28nm甚至14nm及以下的工艺

当然现在的问题是，能够媲美EUV光刻机的NIL光刻机，究竟会在什么时候面市，如果佳能能够实现这个技术，全球的半导体格局都有可能生变

值得大家注意的是，目前NIL技术，基本上都是日系厂商掌握，并不需要依赖美国、欧洲等的产业链，也就是说NIL光刻机，日本一旦生产出来，可以不听美国的，不受美国的长臂管辖，也意味着佳能一定生产出来，是可以卖给中国的

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中国除了继续研发光刻机之外，还在研发无需光刻机的芯片制造工艺，这方面已有日本做出示范，日本企业研发的NIL工艺就无需光刻机并已给日本存储芯片企业铠侠采用，证明了无需光刻机也能生产芯片，而日本预计NIL工艺可用于5nm芯片的生产，如果这一工艺得到推广对ASML更是灭顶之灾

对于ASML来说，中国市场对它意义重大，2021年和今年一季度中国市场为它贡献了三分之一的收入，已成为它的最大市场，如此大的市场，当然是ASML不能轻易舍弃的，事实今年一季度在诸多压力下，ASML就紧急对中国出货23台DUV光刻机，更计划在中国增加200名员工，以更好地为中国客户服务，取得更多市场

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中国光刻机困局之2022(一):长春光机所的新景象

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所以长光集智光学是一家国有控股企业

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要造反?ASML对华供应DUV光刻机显现曙光 欧盟荷兰反对频繁施压

无独有偶此前美国的芯片企业美光也成功研发出了无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺，显示出美国芯片企业也意图摆脱对ASML的依赖，其实美国芯片业界对ASML的打击并不止于此，它们甚至在挖ASML的根

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除了设备过于昂贵之外，EUV光刻机的耗电量也是剧增，据悉台积电的耗电量占中国台湾省衡耗电量比例达到8%，如果引入第二代EUV光刻机，预计耗电量将进一步上涨，不知中国台湾能否撑得住，昂贵的电费让台积电已逐渐难以承受，这都导致采用光刻机的芯片制造工艺成本昂贵

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老美做这些的目的只有一个：将我国排除在世界半导体产业链之外，遏制我国科技的发展，巩固自身的“科技霸权”！任正非曾表示，我国之所以无法实现高端芯片的自给自足，主要还是因为EUV光刻机被卡了脖子

老美也正是看中了我国缺少EUV光刻机，才如此拉帮结派，企图通过结盟，遏制国产芯片的崛起

真的没那么容易

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在芯片制造的过程中，其它是需要两种光刻机的，一种是前道光刻机，就是将光掩膜板上的电路图，记录到涂了光刻胶的晶圆上的光刻机，因为这是前道工序，所以称之为前道光刻机

还有一种是后道光刻机，用于芯片后期的封装，在芯片制造过程中，属于后道工序，所以叫后道光刻机

因为发现别的品牌读盘能力都有不足，选了很多款，最终发现还是先锋的适应性更好！买了，确实不错！之后再买，就这个牌子了，店家发货很快，收藏店家，以后常来！

显然，以我们目前的情况来说，还是第二种选择更符合实际

一直以来，我们都十分希望尽快ASML公司的光刻机，但是在美国技术的限制下，美国并不允许将含有自己技术的产品出口给中国市场，这就导致了我们再也不能从ASML公司进口高端光刻机了

这两年，基于光刻机的新市场规则，我国很难再从国外进口到先进的EUV光刻机，如今虽然美国对ASML公司松口了，允许ASML公司出口光刻机了，但是只是一些中低端产品，我们并不需要