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国产光刻机

颜值没得说 白色很显质感 刻录速度体感比联想绿联戴尔华硕都要快点 用过的刻录机比较多 这款质感最高 物有所值 用的也开心

噪音不大，刻录速度也很快，做工很精细，非常好，买一个放在手边刻盘很方便，美中不足没有赠送保护包，携带有些不方便。

非常好用的一款光驱。京东快递送货很快昨天晚上下单今天就送到啦。表扬。电脑上已经有了一台先锋刻录机也是在京东买的。由于刻录机。比较挑盘所以特意又买了一台DVD。这台先锋dvd，读盘非常稳定几乎听不到噪声。就算是，再烂的盘，也是很安静。有一张高压缩的dvd，连续剧碟在刻录机里完全不能读，但是这个新买的dvd光驱。就很顺利地读完了。

物流很快，宝贝很好，店家人nice！好评！宝贝质量不错，很喜欢。卖家服务真周到。特意用了两天才来评价。老品牌刻录机，做工精细，外观很有质感，包装严实，声音小，不挑盘。京东送货速度快，售后有保障。

ASML 表示，利润率受到了通胀成本上升的影响，此外，一些系统在荷兰进行全面测试之前就向客户发货，导致了延迟确认收入，从而影响了收益

IT之家了解到，ASML 主导着光刻系统市场，客户包括所有主要芯片制造商，其中台积电、三星和英特尔是几大重要客户

很好很满意，读碟流畅，之前买的华硕挺挑碟的，正版碟都读不出，这款棒棒的，刻录倒不常用，用移动硬盘多，暂时没有测试

而0.7nm，差不多相当于2个硅原子的宽度，也是理论上硅基芯片的最高精度，所以很多人认为，当芯片精度达到了1.8nm以后，可能EUV光刻机也不行了，要使用Zyvex公司研发出的这种光刻技术了

Zyvex公司的光刻技术，是啥技术？其光刻系统命名为为ZyvexLitho1，是基于STM扫描隧道显微镜，使用的是EBL电子束光刻方式，与极紫外线没有任何关系，称之为电子束光刻机，可能更合适一点

按照Zyvex的说法，这台ZyvexLitho1是可以商用的，还可以接受别人的订单，具体多少钱一台，不清楚，但机器对方可以在6个月内出货

非常好，一开始没用起，找售后了解后用起了，效果非常棒，售后很热情，必须五星评起

第三次购买先锋刻录机了，质量很好，价廉物美，值得大家购买，5星好评！超值、超值、超值……质量保障，大品牌值得信赖

装上去试了一下。运转声音很静，读碟很快，比以前那个好多了。好用，以前一直都是喜欢用先锋刻录机，非常好用，京东购买，还便宜，性价比高。

光刻机板块净利润光刻机板块平均净利润来源：点掌财经从平均净利润上看，光刻机板块自2019年以来净利润情况是逐年上升的，同时2022年第二季度板块平均净利润为1.19亿元，较去年第二季度的1.00亿同比上升了19.15%；光刻机板块是处于增收又增利的高景气度高成长的发展周期之内

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

所以，目前国内在努力的研发28nm的光刻机，这样经过两次曝光后，可以搞定14nm，至于7nm工艺，那最好还是期待EUV光刻机，用28nm的来曝光三次，良率没法看

如上图所示，这是4大厂商的光刻机精度

其中用于7nm及以下芯片制造的EUV光刻机，只有ASML能够生产

而尼康能搞定高端的7-28nm的AiF+浸润式光刻机，但佳能、上海微电子却还停留在90nm，只能生产低端的光刻机

中企采购的光刻机已到货即便老美升级芯片规则，将制造设备限制到14nm以阻止ASML DUV光刻机进入大陆市场，但ASML依旧态度坚定：不仅重申ASML是欧洲企业，还表态对华出货基本不受影响

据悉该光刻机虽然不是EUV光刻机，但还属于中高端的DUV深紫外光刻机

读盘速度：速度很快，先锋还是很不错的 读盘声音：声音很轻柔 稳定性能：刚上机，目前来说还是很稳定的，不出意外应该会很稳定的 轻薄程度：很简洁，做工挺不错的 外形外观：京东的物流向来是很给力，外观很板正，毕竟是大品牌，还是不错的 产品包装：没有任何磕磕碰碰，盒子包装都没有划痕，很给力不错

也就是说如果要制造1.8nm以下的芯片，可能EUV光刻机就无法胜任了，要推出全新一代技术，至于是什么技术，目前业界还没有定论

目前美国有公司推出了EBL电子束光刻机，可以生产0.768nm的芯片，但无法大规模量产

而俄罗斯在研究X射线光刻机，没有光掩模板，直接光刻，据称可以用于1nm芯片，但没有样品出来

之后理论上数值孔径还能够再提升，比如达到0.7等，但已经没太多必要了，非常不值得，因为成本太高了，难度太大，估计0.55NA就是顶点了

国内拥有3台光刻机的公司

读盘速度：没有具体的数据，反正挺快的。 读盘声音：很安静，试刻录了一个音乐CD盘，写入很快，放到音响上，播放没有问题。 稳定性能：用了很多个先锋了，质量信得过。旧的因为接口不同，所以买了个新的。

不愧是老牌子，质量杠杠滴，上一个也是买的先锋，用了快十年，还能继续用，这次再买个新的，速度不稳定，忽快忽慢的，但是快起来的时候真快

国产90nm的光刻机

徐州光刻机项目

据称，目前国内正在研发28nm精度的光刻机，那么经过2次曝光后，能够达到14nm，然后可以尝试性的进行第三次曝光，然后有可能迈入7nm

当然，以上只是猜测，因为精度越高的光刻机，多次曝光的难度也就越高了，一切还得看真机的实测才行

那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

除此之外，世界知名半导体品牌如三星、英特尔等都在中国市场有产能布局

因此，就如同ASML公司的CEO所言，“需要深刻认识到，中国在全球半导体行业中举足轻重，尤其是在主流半导体领域及成熟制程当中”

截至今日，荷兰官方都尚未同意美国禁止向华出售光刻设备的要求

国产9纳米光刻机样机

携带方便功能强很好用，读碟广泛很好的刻录机。读盘声音：小产品包装：严实稳定性能：稳定外形外观：好读盘速度：很快轻薄程度：适中

先不论中国在全球半导体产业链中至关重要的地位，单就对于荷兰光刻机巨头ASML而言，该公司都不可能理会美国的施压，因为中国市场对于该公司而言十分重要