滨州经济技术开发区慧泽电脑服务中心

面对今天的困境，人们可能很难想象，中国不仅曾经独立研发出光刻机，把与美国的差距缩短到只有7年，而且还是在国外对我们封锁禁运的情况下完成的

今天，我们还能做到吗？1开局新中国成立之初，百废待兴，全国科研人员加起来不过5万人，难以满足建设需要

先锋的刻录机是老牌子，到了之后用了一下，非常好。顺便吐槽一下，现在的笔记本好多都不带光驱了，配一个外置光驱很有必要。

就在形势一片向好时，美国开始了对中国芯片产业的围堵，十几年前的担忧最终成为了现实

如今中国的芯片产业链与国外虽然仍有差距，但与之前不同的是，国家政策持续发力，资金支持到位，工程师队伍不断壮大，产业链的各个环节也已今非昔比

大家都知道光刻机是芯片制造过程中，最重要的设备之一

但大家不清楚的是，光刻机也分前道光刻机，后道光刻机两种

前道光刻机，主要是指将芯片电路图，光刻到硅晶圆上的光刻机，也就是芯片制造的前道工序号需要的光刻机，也称之为前道光刻机，其中又分EUV光刻机、DUV光刻机，UV（i-line）光刻机

这款蓝光刻录机价格太硬了，我等了一年终于降价了，赶紧入手以前有个先锋的普通刻录机，用了十几年了还在用，刻录杠杠的，没一点问题，声音特别小，性能稳定，外观大气，读写速度都很快，质量绝对硬！！

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而作为芯片领域关键一环——EUV和DUV光刻机的生产国，荷兰的态度无疑是相当重要

不过荷兰政府官员近日表示，将捍卫自己的经济利益，拒绝听从美国方面提出的对中国禁售半导体设备请求

荷兰外贸与发展合作大臣Liesje Schreinemacher周二表示，在与美国等其他国家的贸易谈判中，荷兰将就阿斯麦公司（ASML）向中国销售芯片设备的事宜做出自己的决定

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读盘声音：声音小 轻薄程度：比较有质感 外形外观：质量看着很好 产品包装：包装完美 读盘速度：运行快 稳定性能：特别稳定

发货速度快，包装严实，刻录机做工很精致，装上很好用，就是没有送刻录软件。替换了原来的内置光驱，完美安装上后，开机自动识别，无需任何操作（win7）

目前的硅基芯片性能提升主要依赖芯片制造工艺的提升，然而业界都清楚硅基芯片的极限是1nm，而目前最先进的芯片制造工艺是3nm却已面临巨大困难，三星的3nm工艺技术更先进但是良率太低，台积电的3nm工艺基于成熟的FinFET技术却导致性能提升有限而成本过高被苹果舍弃

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但之后随着美国打压力度的加大，就连比较落后的DUV光刻机也在禁售行列

今年10月份，美国公布多项芯片禁令，限制向中国出售先进半导体和芯片制造设备，禁止美国人帮助中国发展芯片技术，并试图拉拢包括ASML在内的欧洲企业共同制裁中国

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光刻机的工作原理说到这儿，大家可能已经茅塞顿开，合着这玩意儿就起着“转移图形”的作用

这样的话，似乎也没什么了不起

从理论上来说，转移图形并不难，难的是芯片变得越来越小，其中容纳的晶体管数量越来越多

这就意味着，光刻机必须要将复杂的集成电路图形，精确地转移到小N倍的芯片上，一旦出现什么意外，芯片就报废了

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很好，轻薄，声音也小，速度不错，还没有拆开用，现在计算机配光驱的不多了，买个外置的特殊场合备用，很是不错

那么问题就来了， 国产90nm的前道光刻机，究竟能够生产几纳米的芯片，是不是就只能是90nm了？事实上并不是的，在一些晶圆厂的实际测试中，在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

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光刻机激光概念股

读盘速度：读速很快 读盘声音：一般情况下，声音较轻 稳定性能：稳定性高 轻薄程度：大小合适 外形外观：外观美观 产品包装：包装精美，质量可靠

而在精度方面，90nm肯定没问题的，同时经过两次曝光，可以得到45nm的芯片，三次曝光最高可以达到22nm左右的水平

那么能不能四次曝光，五次曝光，将精度提升上去？事实上，在实际使用中，2次曝光就已经很厉害了，像ASML等的光刻机 ，大多也只是进行2次曝光

因为实践表示，3次曝光会导致良率大幅度下降，4、5次良率可能会低到没法想象，晶圆厂们的成本高到没法承受，不如买一台更高级光刻机，成本还低一些

日本开发的NIL工艺是全球第一项无需光刻机的芯片制造工艺，此前已被铠侠用于存储芯片生产，此前日本方面就预计NIL工艺将可以演进至5nm，到去年底日本已将该工艺突破10nm，到如今不到1年时间又突破到5nm，可谓进展神速

和美国远离EUV

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那么阿斯麦的光刻机，凭什么能卖那么贵？光刻机制造难点熟悉《星球大战》的朋友都知道光剑吧，在那个主题设定里，光剑可是一种高科技武器

同样，在光刻机里，也有一把“光剑”，它能在晶圆上刻画芯片电路，这是芯片生产最基础也最关键的一环

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